Компании IBM и Lam Research объявили о пятилетнем сотрудничестве, направленном на разработку материалов и производственных процессов, необходимых для масштабирования логических чипов за пределы 1 нм. В основе проекта лежит использование литографии High NA EUV и сухой резист-технологии Aether от Lam.
Читать дальше →
В условиях продолжающихся ограничений на экспорт в Китай передовых технологий, включая EUV-литографию, ИИ и ПО для проектирования (EDA), ключевым вопросом для местной полупроводниковой отрасли стал поиск пути к технологической независимости.В научном журнале «科技导报» (Science and Technology Review)
Читать дальше →
Голландская компания ASML, являющаяся единственным в мире производителем массовых EUV-литографов, продолжает опережать рынок в разработке этой технологии. Как стало известно, компания уже ведёт работы над литографами третьего поколения.Первое поколение EUV-литографов с числовой апертурой (NA) 0.33
Читать дальше →
Коммерческое производство на EUV-литографах продолжается уже восемь лет, но потенциал для оптимизации их производительности всё ещё велик. Недавно компания ASML анонсировала технологию повышения мощности источника света до 1000 Вт. Теперь европейские исследователи предложили ещё один метод.Новый
Читать дальше →
Исследователи из бельгийского исследовательского центра Imec представили метод, позволяющий повысить производительность оборудования для EUV-литографии. Учёные обнаружили, что увеличение концентрации кислорода на этапе постэкспозиционного нагрева (PEB) ускоряет работу металлооксидного резиста.В
Читать дальше →
Нидерландская компания ASML, единственный в мире производитель массовых установок для экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии, объявила о технологическом прорыве. Инженерам удалось удвоить мощность источника EUV-излучения — с 600 до 1000 Вт.Это революционное улучшение напрямую повлияет на
Читать дальше →
Голландская компания ASML, ключевой поставщик оборудования для производства полупроводников, на этой неделе подтвердила, что находится на пути к созданию системы литографии Twinscan NXE с источником экстремального ультрафиолетового (EUV) излучения мощностью 1000 Вт. Новая установка сможет
Читать дальше →
Хотя Япония отстала от ASML в производстве EUV-литографов, она сохраняет сильные позиции в других ключевых EUV-технологиях, таких как EUV-фоторезисты и EUV-фотошаблоны.В настоящее время Samsung почти на 100% зависит от импортных EUV-фотошаблонов из Японии, в основном от компаний Hoya и AGC. Эти
Читать дальше →
Intel, как ожидается, официально представит процессор Panther Lake на выставке CES на следующей неделе. Это будет первый потребительский процессор, выпускаемый по передовому техпроцессу 18A.Техпроцесс 18A — ключевое обновление Intel, в котором используются транзисторы RibbonFET и технология питания
Читать дальше →
В высокотехнологичной сфере общепризнанно, что США и Китай находятся на переднем крае, в то время как Европейский союз отстаёт. Однако новый внутренний отчёт ЕС, похоже, придерживается иного мнения, утверждая, что технологическая зависимость Китая и США от Европейского союза гораздо выше, чем
Читать дальше →
Технология экстремального ультрафиолета (EUV) стала незаменимой для производства чипов по нормам 5 нм и ниже. Единственным в мире производителем EUV-литографов остаётся голландская компания ASML. Теперь США решили усилить свои позиции в этой области, официально инвестировав в стартап.Компания
Читать дальше →
По мере того как производство чипов по 2-нанометровому техпроцессу выходит на стадию массового выпуска, японские поставщики материалов наращивают мощности по выпуску фоторезистов и высокочистых химикатов для EUV-литографии, сообщает Nikkei. Компании Tokyo Ohka Kogyo (TOK), Adeka и JSR строят или
Читать дальше →
Технология EUV (экстремального ультрафиолета) стала обязательным этапом для производства чипов после 5-нм техпроцесса. Хотя оборудование для EUV-литографии производит только голландская ASML, Япония сохраняет сильные позиции в области EUV-фоторезистов. Три крупнейших японских химических концерна
Читать дальше →
Голландская компания ASML, являющаяся единственным в мире поставщиком оборудования для EUV-литографии, после периода давления на финансовые показатели готовится к новому витку роста.Аналитики инвестиционного банка Morgan Stanley повысили рекомендацию по акциям ASML до «покупать». Причиной стали
Читать дальше →
Передовые полупроводниковые технологии сегодня доступны лишь немногим компаниям, а для процессов 5 нм и менее необходимо оборудование для EUV-литографии. Голландская компания ASML стала единственным в мире поставщиком таких установок.Голландский финансовый журналист Марк Хейинк (Marc Hijink)
Читать дальше →
EUV-фоторезист, наряду с литографическими системами крайнего ультрафиолета, является ключевым материалом для производства чипов по нормам 5 нм и менее. В Уси (Китай) официально запустили первую в стране платформу, освоившую ключевые технологии производства EUV-фоторезистов.
Согласно информации с
Читать дальше →
Компания Intel в этом году начинает массовое производство по технологии 18A — ключевому этапу в рамках стратегии «4 года — 5 технологических процессов». Этот процесс будет совершенствоваться и использоваться вплоть до 2030 года.
Следующим этапом после 18A станет технология 14A, для которой будет
Читать дальше →
Компания ASML, мировой лидер в производстве полупроводникового оборудования, приступила к разработке нового поколения EUV-степперов Hyper NA. Эта технология станет основой для производства чипов в следующем десятилетии.Как заявил Йос Беншоп (Jos Benschop), ASML совместно со своим эксклюзивным
Читать дальше →
