Передовые полупроводниковые технологии сегодня доступны лишь немногим компаниям, а для процессов 5 нм и менее необходимо оборудование для EUV-литографии. Голландская компания ASML стала единственным в мире поставщиком таких установок.Голландский финансовый журналист Марк Хейинк (Marc Hijink)
Читать дальше →
EUV-фоторезист, наряду с литографическими системами крайнего ультрафиолета, является ключевым материалом для производства чипов по нормам 5 нм и менее. В Уси (Китай) официально запустили первую в стране платформу, освоившую ключевые технологии производства EUV-фоторезистов.
Согласно информации с
Читать дальше →
Компания Intel в этом году начинает массовое производство по технологии 18A — ключевому этапу в рамках стратегии «4 года — 5 технологических процессов». Этот процесс будет совершенствоваться и использоваться вплоть до 2030 года.
Следующим этапом после 18A станет технология 14A, для которой будет
Читать дальше →
Компания ASML, мировой лидер в производстве полупроводникового оборудования, приступила к разработке нового поколения EUV-степперов Hyper NA. Эта технология станет основой для производства чипов в следующем десятилетии.Как заявил Йос Беншоп (Jos Benschop), ASML совместно со своим эксклюзивным
Читать дальше →
