ASML разрабатывает революционный Hyper NA EUV-степпер с разрешением 5 нм за один проход

Компания ASML, мировой лидер в производстве полупроводникового оборудования, приступила к разработке нового поколения EUV-степперов Hyper NA. Эта технология станет основой для производства чипов в следующем десятилетии.

Как заявил Йос Беншоп (Jos Benschop), ASML совместно со своим эксклюзивным оптическим партнёром Carl Zeiss работает над созданием EUV-оборудования, способного создавать структуры с разрешением до 5 нм за один проход экспонирования. Это позволит удовлетворить требования к техпроцессам после 2035 года.

Для сравнения: современные EUV-степперы ASML обеспечивают разрешение 8 нм за один проход. Более старые модели требовали многократного экспонирования для достижения аналогичных результатов, что снижало эффективность и выход годных кристаллов.

Беншоп отметил, что ASML и Carl Zeiss проводят исследования с целью достижения числовой апертуры (NA) 0.7 и выше. Точные сроки вывода технологии на рынок пока не определены.

Числовая апертура (NA) — ключевой параметр, определяющий способность оптической системы собирать и фокусировать свет. Чем выше NA и короче длина волны, тем выше разрешение печати.

Современные EUV-степперы имеют NA 0.33, а новейшие модели High NA EUV — 0.55. Теперь ASML стремится достичь показателя 0.7 NA и выше (Hyper NA).

Интересный факт: Современные процессоры Apple M4 и Intel Core Ultra уже производятся по 3-нм техпроцессу, но для этого требуется сложная многослойная литография. Новая технология ASML может значительно упростить и удешевить производство таких чипов.