Генеральный директор ASML Питер Веннинк заявил в интервью, что Китай уже разработал собственные литографические установки, несмотря на технологическое отставание от голландской компании. По его словам, санкции США лишь стимулируют Китай к более активному развитию собственных технологий.
Читать дальше →
TSMC решила не использовать литографию High-NA EUV для своего будущего узла A14 эпохи Ангстрем. Вместо этого крупнейший в мире контрактный производитель микросхем будет придерживаться проверенных на практике инструментов EUV 0,33-NA. Старший вице-президент TSMC Кевин Чжан объяснил, что этот выбор
Читать дальше →
Национальная лаборатория имени Лоуренса в Ливерморе работает над созданием тулиевого лазера петаваттного класса, который, как утверждается, в 10 раз эффективнее CO2-лазеров, используемых в EUV-инструментах, и может со временем заменить CO2-лазеры в литографических системах.Инициатива под
Читать дальше →
Ожидается, что заказанный Rapidus станок EUV-литографии от ASML прибудет в Японию в середине декабря, согласно информации Nikkei, цитируемой TrendForce. Это знаменует собой первое развертывание технологии EUV в Японии, важный шаг для полупроводниковой промышленности страны, которая стремится
Читать дальше →
Корпорация Nikon (Nikon) разрабатывает систему цифровой литографии с разрешением в один микрон (L/S) и высокой производительностью для современных приложений по корпусированию полупроводников. Выпуск этого продукта запланирован на 2026 финансовый год Nikon.Быстрое внедрение технологии
Читать дальше →
TSMC, мировой лидер в производстве полупроводников, переходит на производство с вычислительной литографической платформой NVIDIA, называемой cuLitho, чтобы ускорить производство и раздвинуть границы физики для следующего поколения передовых полупроводниковых чипов. Критический шаг в производстве
Читать дальше →
ASML, единственный в мире поставщик систем литографии в крайнем ультрафиолете (EUV), необходимых для производства самых передовых чипов, обнародовал свою дорожную карту для дальнейшего продвижения масштабирования полупроводников. В недавней презентации бывший президент ASML Мартин ван ден Бринк
Читать дальше →
Intel, Samsung Foundry и TSMC используют машины ASML EUV-литографии, которые способны «печатать» полупроводники с разрешением 13 нм, для создания чипов на своих новейших производственных узлах. Но использование источника EUV-излучения с лазерной плазмой (LPP) (который представляет собой CO2-лазер,
Читать дальше →
У Китая есть грандиозный план стать полностью самодостаточным в производстве чипов. Это потребует от отечественных компаний создания собственных инструментов для производства пластин. Хотя в Китае есть довольно успешные производители инструментов для травления и
Читать дальше →
