Американский стартап разрабатывает рентгеновский литограф для конкуренции с ASML

Американский стартап Substrate намерен бросить вызов доминированию голландской компании ASML на рынке литографического оборудования. Компания разрабатывает рентгеновский литограф, который, по её заявлениям, сможет заменить современные EUV-установки.

Текущая стоимость EUV-литографа с числовой апертурой 0.33 составляет около 200 миллионов долларов (~16 млрд рублей), а следующего поколения с апертурой 0.55 — 400 миллионов долларов (~32 млрд рублей). Инвестиции в передовую фабрику по производству пластин достигают 15 миллиардов долларов (~1.2 трлн рублей).

Прорывом Substrate стала разработка рентгеновской литографической машины, использующей ускоритель частиц для получения источника света с более короткой длиной волны. По словам компании, стоимость их технологии будет вдвое ниже существующих решений.

Длина волны рентгеновских лучей может достигать 0,1–10 нм, что даже меньше, чем 13,5 нм в EUV-диапазоне

Основатель компании Джеймс Прауд заявил, что их литограф в перспективе может снизить стоимость производства современных пластин со 100 000 до примерно 10 000 долларов. Массовое производство планируется на 2028 год.

Компания уже получила финансирование в размере 100 миллионов долларов при оценке в 1 миллиард долларов. Однако технология имеет существенные недостатки: низкая эффективность источника света, высокие требования к маскам и необходимость разработки новых фоторезистов.

ИИ: Амбициозные планы Substrate выглядят скорее как долгосрочная стратегия, чем как немедленная угроза для ASML. Рентгеновская литография действительно обладает потенциалом благодаря меньшей длине волны, но практическая реализация сталкивается с фундаментальными техническими challenges. В условиях текущей технологической гонки между США и Китаем такие стартапы получают повышенное внимание, однако до реального производства ещё годы разработок.