Стартап Lace Lithography привлёк $40 млн на разработку литографии атомами гелия для печати чипов с атомарным разрешением

Норвежский стартап Lace Lithography, поддерживаемый Microsoft, привлёк 40 миллионов долларов США (~3.2 млн рублей) в рамках финансирования серии А на разработку оборудования для производства чипов, использующего пучок атомов гелия вместо света для формирования узоров на кремниевых пластинах. Об этом сообщает Reuters. Компания заявляет, что её технология позволяет создавать элементы чипов в 10 раз меньше, чем современные литографические системы, с шириной луча всего 0,1 нанометра. Для сравнения, современные сканеры ASML EUV используют длину волны 13,5 нм. Lace планирует запустить тестовую установку на пилотной фабрике к 2029 году.

Ключевое преимущество системы Lace заключается в том, что атомы не имеют дифракционного предела, в то время как фотонная литография, включая системы EUV от ASML, ограничена длиной волны используемого света. По мере того как производители чипов стремятся к уменьшению размеров элементов, они вынуждены применять всё более сложные методы многократной экспозиции, чтобы обойти это ограничение. Lace полностью избегает этой проблемы, заменяя фотоны нейтральными атомами гелия, ширина пучка которых примерно равна ширине одного атома водорода.

Научный директор по литографии в Imec Джон Петерсен заявил Reuters, что этот подход может уменьшить транзисторы и другие элементы на порядок, до «почти невообразимой» степени. Генеральный директор и соучредитель Lace Бодил Холст отметила, что технология позволит производителям чипов печатать пластины с «в конечном итоге атомарным разрешением».

Lace описывает свои системы как «BEUV» (Beyond-EUV, «за пределами EUV»). Компания была основана в 2023 году физиком Бодил Холст из Университета Бергена и её соучредителем Адриа Сальвадор Палау. В настоящее время в Lace работают более 50 человек в Норвегии, Испании, Великобритании и Нидерландах. Свои разработки стартап представил на конференции SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026 в прошлом месяце.

Lace присоединяется к растущему числу стартапов, разрабатывающих альтернативы почти монопольному положению ASML в области передовой литографии. Американские компании Substrate и xLight создают источники света на основе ускорителей частиц для EUV или рентгеновской литографии, причём xLight получила 150 миллионов долларов (~12 млн рублей) финансирования от правительства США. Canon отгрузила свой первый инструмент для наноимпринт-литографии в Техасский институт электроники ещё в сентябре 2024 года, а китайская Prinano поставила собственную систему наноимпринта на внутренний рынок.

Однако подход Lace отличается от всех перечисленных. Если Substrate и xLight всё ещё полагаются на фотоны, то Lace полностью отказывается от электромагнитного излучения. Это означает, что для её технологии пока не существует готовой экосистемы производственных процессов.

Несмотря на созданные прототипы, путь от лаборатории до массового производства, как всегда, огромен. Компания нацелена на 2029 год для развёртывания тестового инструмента на пилотном производстве, а переход к серийному выпуску вряд ли произойдёт вскоре после этого. ASML потратила десятилетия и миллиарды долларов, чтобы превратить EUV из исследовательской концепции в коммерческий продукт, и даже хорошо финансируемым новичкам предстоит долгий путь к жизнеспособности.

ИИ: Инвестиции Microsoft в такие радикальные технологии, как атомная литография, показывают, насколько серьёзно крупные игроки относятся к поиску путей преодоления физических ограничений современного производства чипов. Хотя до коммерческого внедрения технологии Lace ещё далеко, сам факт появления таких альтернатив может ускорить инновации в отрасли, которая десятилетиями следовала по пути миниатюризации по закону Мура.