Китайская компания Shanghai Micro Electronics Equipment выиграла тендер на поставку литографической системы за 1,1 млрд юаней

Развитие отечественного производства литографических систем в Китае привлекает большое внимание, и каждый новый шаг становится объектом пристального интереса. Сегодня на сайте государственных закупок появилась информация о том, что компания Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) выиграла тендер на поставку сканирующей степпер-литографической системы.

В объявлении о закупке за номером zycgr22011903 на сайте государственных закупок Китая упоминается, что Министерство науки и технологий закупило одну сканирующую степпер-литографическую систему методом единственного источника. Сумма контракта составила около 1,099 млрд юаней, а победителем тендера стала компания Shanghai Micro Electronics Equipment. Модель оборудования указана как SSC800/10.

На момент публикации новости объявление о победе в тендере всё ещё доступно, но страница с подробностями уже не открывается.

Модель SSC800 от Shanghai Micro Electronics ранее не анонсировалась. Пользователи сети могут вспомнить, что пару лет назад в интернете ходили слухи о модели SSA800, которую называли литографической системой для 28-нм техпроцесса. Модель SSC800, вероятно, относится к тому же поколению технологий.

Однако, строго говоря, называть её «28-нм литографической системой» неверно или, по крайней мере, неточно. Разрешение при однократной экспозиции у литографических систем не настолько высоко. У SSC800 разрешение составляет 110 нм, а точность совмещения слоёв — 15 нм.

В сентябре 2024 года Министерство промышленности и информатизации КНР опубликовало «Каталог для продвижения и применения первых (комплектов) крупного технологического оборудования (версия 2024 года)». В нём упоминались два типа аргон-фторидных (ArF) литографических систем с длиной волны источника 193 нм. У иммерсионной модели разрешение было ≤65 нм, а точность совмещения ≤8 нм. У модели с «сухим» процессом (сухая литография) разрешение составляло ≤110 нм, а точность совмещения ≤25 нм.

Модель, с которой Shanghai Micro Electronics выиграла текущий тендер, по всей видимости, относится к системам с «сухим» процессом и ещё не является тем передовым продуктом, которого многие ожидали.