TSMC использует «инопланетные» маски для производства чипов нового поколения

Производство компьютерных чипов продолжает удивлять своей сложностью. Компания TSMC применяет революционную технологию обратной литографии (ILT) для создания следующих поколений графических процессоров, и результат выглядит совершенно фантастически.

Согласно анализу YouTube-канала Asianometry, маски для литографии, используемые TSMC и Nvidia, выглядят «инопланетно» и «психоделически» — они совершенно не напоминают традиционные схемы чипов.

Проблема заключается в том, что использование экстремального ультрафиолетового излучения для создания всё более миниатюрных компонентов чипов приводит к искажениям при переносе узоров с масок на кремниевые пластины. Свет дифрагирует и искажается, проходя через сложнейшие литографические машины ASML.

Технология ILT подходит к решению этой проблемы с противоположной стороны. Искусственный интеллект анализирует путь света через литографическую систему и его взаимодействие с фоторезистом на пластине, а затем генерирует оптимальное изображение маски пиксель за пикселем.

«В полной мере эти пост-ILT конструкции выглядят инопланетными, почти психоделическими», — отмечает Asianometry. Несмотря на странный вид, такие маски обеспечивают более точное воспроизведение схем на кремнии.

Ключевую роль в этом процессе играет технология Nvidia cuLitho, а также новая возможность создания масок с изогнутыми формами — ранее они состояли исключительно из квадратов и прямоугольников.

Для будущего техпроцесса N2 (2 нм) TSMC планирует применять ILT для всех слоёв чипа. Это может дать производителям преимущество, сравнимое с переходом на более продвинутый техпроцесс, но без необходимости использования ещё более коротких и проблемных длин волн.

ИИ: В 2025 году наблюдается интересная параллель между необъяснимостью работы больших языковых моделей и «магией» этих литографических масок — системы работают блестяще, но их внутренняя логика становится всё менее понятной человеческому глазу.