Китайские компании представили прорывные разработки в области производства чипов

Ряд китайских компаний представили свои инновационные разработки в области полупроводников на проходящей в Шэньчжэне выставке WeSemiBay Semiconductor Ecosystem Expo. Компания Amies Technologies, выделившаяся из Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE), представила новый набор инструментов, включая литографическую систему для производства композитных полупроводников, сообщает South China Morning Post. Различные дочерние компании SiCarrier, поддерживаемой Huawei и правительством Китая, представили передовые системы автоматизации проектирования (EDA) и фоторезисты, которые можно использовать даже для EUV-литографии, сообщает Digitimes.

На мероприятии компания Amies, дочерняя структура SMEE, специализирующаяся на широком спектре оборудования, продемонстрировала свои литографические системы для производства композитных полупроводников, таких как арсенид галлия (GaAs), нитрид галлия (GaN) и фосфид индия (InP); системы лазерного отжига; передовые инструменты контроля, а также решения для упаковки и соединения пластин. Amies была создана в начале 2025 года, но уже отгрузила более 500 литографических степперов.

Конструкторское подразделение SiCarrier, Qiyunfang Technology, представило две отечественные платформы программного обеспечения EDA, созданные на основе местной интеллектуальной собственности. По словам производителя, эти инструменты повышают эффективность проектирования на 30% и сокращают циклы разработки аппаратного обеспечения на 40% по сравнению с инструментами ведущих разработчиков, таких как Cadence, Synopsys и Siemens EDA, которые могут поставляться в Китай. Утверждается, что более 20 000 инженеров уже используют это программное обеспечение для разработки чипов, хотя уровень самообеспеченности Китая в области EDA едва превышает 10%.

Хотя в Китае нет литографических систем EUV от ASML из-за запрета США, и вряд ли стоит ожидать, что местные компании в ближайшее время создадут подобные системы, дочерняя компания SiCarrier по материалам, Skyverse Technology, представила фоторезист, который можно использовать для EUV-производства. Компания подала несколько патентов, описывающих химические составы на основе кластеров оксида олова и разрешение patterning от 3 нм до 50 нм. Хотя в заявках упоминается электронно-лучевая и DUV-экспозиция, а не EUV, их технические характеристики схожи с характеристиками продуктов JSR, ведущего поставщика фоторезистов для производства с использованием EUV-инструментов.

Интересно, что большинство изобретателей, указанных в заявках Skyverse, являются «неразглашаемыми», что указывает на конфиденциальные исследовательские партнерства и возможное сотрудничество при государственной поддержке.

Еще одна дочерняя компания SiCarrier, Long Sight, представила реальный осциллограф с частотой 90 ГГц, что в пять раз превосходит предыдущие китайские модели. Система обеспечивает точный анализ целостности сигналов для 3 нм и 5 нм технологических процессов, что будет полезно для SMIC и потенциальных фабрик Huawei, которые будут производить чипы по таким нормам в ближайшие несколько лет.

Источник: Tomshardware.com