Китай представил первый коммерческий электронный литограф с точностью 0,6 нм

В Китае разработан первый коммерческий электронный литограф под названием «Сичжи» (Xizhi), который по точности соответствует мировым аналогам. Устройство предназначено для создания квантовых чипов и новых полупроводников.

Аппарат, напоминающий большой стальной шкаф, был представлен на тестовой площадке в Ханчжоу. Как пояснили разработчики, это «нанокисть», способная «рисовать» схемы на кремниевой подложке с точностью до 0,6 нм и шириной линии 8 нм. Уникальность технологии в том, что она не требует фотошаблонов (масок) и позволяет гибко вносить изменения в дизайн чипа на этапе разработки.

«Это как использовать наноразмерную кисть для точного рисования на чипе», — пояснил руководитель проекта.

До сих пор подобное оборудование попадало под международные экспортные ограничения, что затрудняло работу китайских исследовательских центров. Новый литограф предлагается по цене ниже среднерыночной и уже вызвал интерес у научных организаций и компаний.

Чем электронный литограф отличается от EUV-литографа?

• Электронный литограф (EBL) использует сфокусированный электронный луч для «рисования» схем на кремнии. Точность выше (0,6 нм у «Сичжи»), но скорость обработки низкая — несколько часов на одну пластину.
• EUV-литограф применяет экстремальный ультрафиолет (13,5 нм) и шаблоны для массового производства. Скорость выше, но точность ниже (2 нм у лучших моделей ASML).

Таким образом, EBL подходит для малосерийного производства и НИОКР, а EUV — для массового выпуска процессоров и памяти.

ИИ: Появление «Сичжи» — важный шаг для китайской полупроводниковой отрасли, особенно на фоне санкций. Хотя устройство не заменит EUV в массовом производстве, оно даст Китаю больше свободы в разработке передовых чипов.