ASML заявила, что Китай уже разработал собственные литографы: достигнут прорыв в технологии DUV-лазеров
Генеральный директор ASML Питер Веннинк заявил в интервью, что Китай уже разработал собственные литографические установки, несмотря на технологическое отставание от голландской компании. По его словам, санкции США лишь стимулируют Китай к более активному развитию собственных технологий.
«Китайцы уже создали собственные литографы. Хотя им ещё далеко до уровня ASML, попытки их сдерживания только заставляют их работать усерднее», — отметил Веннинк.
Ранее Китайская академия наук сообщила о прорыве в разработке твердотельных DUV-лазеров с длиной волны 193 нм, что соответствует современным стандартам литографии. Эта технология потенциально позволяет производить чипы с нормами 3 нм.
Новая лазерная система демонстрирует среднюю мощность 70 мВт, частоту 6 кГц и узкую спектральную линию (менее 880 МГц). Хотя текущие показатели мощности составляют лишь 0,7% от систем ASML, технология предлагает преимущества в виде:
- Снижения сложности и габаритов оборудования
- Уменьшения зависимости от редких газов
- Значительного сокращения энергопотребления
Разработка была представлена на сайте Международного общества оптики и фотоники (SPIE). Эксперты отмечают, что китайской технологии потребуется ещё несколько итераций для достижения промышленного уровня.
Интересный факт: ASML остаётся единственным в мире производителем литографов для 5-нм и более тонких техпроцессов. Китайские компании SMIC и Hua Hong Semiconductor пока используют более старые 14-нм и 28-нм технологии.
0 комментариев