ASML выпустила самый мощный в мире EUV-литограф за 30 млрд юаней

Голландская компания ASML, мировой лидер в производстве оборудования для фотолитографии, объявила о поставке первого в мире новейшего литографа второго поколения High NA EUV — модели EXE:5200.

Первый экземпляр машины стоимостью около 30 млрд юаней (~300 млрд рублей) приобрела корпорация Intel. Эта модель является усовершенствованной версией предыдущего литографа EXE:5000.

«EXE:5200 обладает большей производительностью по сравнению с EXE:5000 (более 185 пластин в час) и лучше подходит для массового производства чипов по 2-нм техпроцессу»

Обе модели — TWINSCAN EXE:5000 и EXE:5200 — оснащены линзами с числовой апертурой 0.55 NA, что обеспечивает более высокое разрешение по сравнению с предыдущими EUV-литографами (0.33 NA). Это позволяет создавать более миниатюрные транзисторы.

Технология EUV 0.55 NA предназначена для поддержки нескольких перспективных технологических узлов, начиная с 2025 года, с последующим внедрением в производство памяти аналогичной плотности.

При этом эксперты отмечают, что столь передовое оборудование недоступно для китайских производителей полупроводников — речь идёт не о стоимости, а о политических ограничениях.