Nikon решила бросить вызов ASML, начав ценовую войну на рынке DUV-сканеров

/ Новости / Технологии
Японский производитель литографического оборудования Nikon намерен бросить вызов доминированию нидерландской ASML на рынке DUV-сканеров. Компания планирует использовать ценовую стратегию для привлечения заказчиков, предлагая значительные скидки на свои ArF-системы.Генеральный директор Nikon Ясухиро
Читать дальше →
  • 0

Прорыв в производстве чипов: в Китае решили проблему с фоторезистом для литографии

/ Новости / Технологии
Китайская промышленность сделала важный шаг к независимости в производстве чипов. Совместная исследовательская группа под руководством Шанхайской лаборатории искусственного интеллекта (Shanghai AI Laboratory) успешно решила сложную задачу стабильного синтеза фоторезиста — ключевого материала для
Читать дальше →
  • 0

Илон Маск подтвердил использование технологии Intel 14A для проекта TeraFab

/ Новости / Технологии
Intel получает мощного союзника для своей фирменной технологии производства 14A. В ходе телеконференции, подводящей итоги финансовых результатов за первый квартал 2026 года, генеральный директор Tesla Илон Маск официально подтвердил использование этой литографии в рамках развиваемого проекта
Читать дальше →
  • 0

Корейский эксперт сомневается в возможности самостоятельной разработки EUV-литографа за 10 лет

/ (Обновлено: ) / Новости / Технологии
EUV-литограф — это ключевое оборудование для создания чипов по техпроцессам 5 нм и тоньше. В настоящее время единственной компанией в мире, способной производить такие машины, является ASML, чья разработка объединила технологии США, Европы и ряда азиатских стран.Из-за известных ограничений одна из
Читать дальше →
  • 0

Стартап Lace Lithography привлёк $40 млн на разработку литографии атомами гелия для печати чипов с атомарным разрешением

/ Новости / Технологии
Норвежский стартап Lace Lithography, поддерживаемый Microsoft, привлёк 40 миллионов долларов США (~3.2 млн рублей) в рамках финансирования серии А на разработку оборудования для производства чипов, использующего пучок атомов гелия вместо света для формирования узоров на кремниевых пластинах. Об этом
Читать дальше →
  • 0

Китайские лидеры полупроводниковой отрасли признали: альтернатива ASML «мала, фрагментирована и слаба»

/ Новости / Технологии
Ведущие руководители китайской полупроводниковой отрасли на этой неделе публично призвали к консолидированным национальным усилиям по созданию отечественной альтернативы голландскому гиганту литографии ASML. Они предупредили, что местная индустрия оборудования для производства чипов остается слишком
Читать дальше →
  • 0

Без EUV: китайская технология решает проблему точности для 3-нм техпроцесса, повышая точность до 0,8 нм

/ Новости / Технологии
В условиях отсутствия литографов EUV китайской полупроводниковой отрасли приходится полагаться на DUV-оборудование для реализации более передовых техпроцессов, что представляет собой серьёзный технологический вызов. В то время как TSMC и Intel используют DUV лишь до 7 нм, в Китае ставят цель освоить
Читать дальше →
  • 0

Импорт оборудования для производства чипов в Китае превысил 700 млрд юаней

/ Новости / Технологии
Несмотря на многочисленные ограничения, китайская полупроводниковая отрасль продолжает активно развиваться. Об этом свидетельствуют данные по импорту ключевого оборудования, в первую очередь — литографических систем.Согласно статистике Bernstein, основанной на данных китайской таможни, в 2025 году
Читать дальше →
  • 0

Китайская компания Shanghai Micro Electronics Equipment выиграла тендер на поставку литографической системы за 1,1 млрд юаней

/ Новости / Технологии
Развитие отечественного производства литографических систем в Китае привлекает большое внимание, и каждый новый шаг становится объектом пристального интереса. Сегодня на сайте государственных закупок появилась информация о том, что компания Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) выиграла тендер
Читать дальше →
  • 0

TSMC использует «инопланетные» маски для производства чипов нового поколения

/ Новости / Технологии
Производство компьютерных чипов продолжает удивлять своей сложностью. Компания TSMC применяет революционную технологию обратной литографии (ILT) для создания следующих поколений графических процессоров, и результат выглядит совершенно фантастически.Согласно анализу YouTube-канала Asianometry,
Читать дальше →
  • 0

Китайские ученые нашли способ снизить дефекты при производстве чипов на 99%

/ (Обновлено: ) / Новости / Технологии
Китайские исследователи из Пекинского университета и Университета Цинхуа обнаружили метод, позволяющий снизить плотность дефектов при производстве чипов на 99% с использованием существующего оборудования DUV-литографии. Исследование опубликовано в журнале Nature. Ученые впервые визуализировали
Читать дальше →

Американский стартап разрабатывает рентгеновский литограф для конкуренции с ASML

/ Новости / Технологии
Американский стартап Substrate намерен бросить вызов доминированию голландской компании ASML на рынке литографического оборудования. Компания разрабатывает рентгеновский литограф, который, по её заявлениям, сможет заменить современные EUV-установки.Текущая стоимость EUV-литографа с числовой
Читать дальше →

Китай совершил прорыв в технологии литографии для производства чипов

/ Новости / Технологии
Прорыв Китая в материалах для литографии Китай достиг значительного прорыва в полупроводниковых технологиях, который может изменить глобальный ландшафт в производстве чипов. Команда под руководством профессора Хайлиня Пэна из Пекинского университета совместно с местными партнерами разработала
Читать дальше →
  • 0

Китайские компании представили прорывные разработки в области производства чипов

/ (Обновлено: ) / Новости / Технологии
Ряд китайских компаний представили свои инновационные разработки в области полупроводников на проходящей в Шэньчжэне выставке WeSemiBay Semiconductor Ecosystem Expo. Компания Amies Technologies, выделившаяся из Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE), представила новый набор инструментов,
Читать дальше →
  • 0

ASML представила литографический сканер Twinscan XT:260 для 3D-упаковки чипов

/ (Обновлено: ) / Новости / Технологии
Компания ASML представила литографическую систему Twinscan XT:260 — первую в отрасли систему, разработанную специально для передовой 3D-упаковки чипов. Новая машина обеспечивает четырёхкратное увеличение производительности по сравнению с существующими решениями.Технологии продвинутой упаковки,
Читать дальше →

ASML отчиталась о снижении прибыли, но прогнозирует рост к 2030 году

/ Новости / Технологии
ASML опубликовала финансовые результаты за третий квартал 2025 года. Чистая выручка компании составила 75,16 млрд евро, что на 2,3% ниже показателя прошлого года. Рентабельность по валовой прибыли составила 51,6%, сократившись на 2,1 процентного пункта. Чистая прибыль достигла 21,25 млрд евро,
Читать дальше →
  • 0

Стоимость китайской SMIC превысила триллион юаней на фоне слухов о тестировании 5-нм литографии

/ (Обновлено: ) / Новости / Технологии
Китайский полупроводниковый гигант SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corporation) достиг исторической отметки — его общая рыночная капитализация превысила 1 триллион юаней (~12 трлн рублей).На момент публикации дневной объем торгов акциями SMIC класса «А» превысил 10 млрд юаней (~120
Читать дальше →
  • 0

Новая технология литографии на мягком рентгеновском излучении может превзойти EUV

/ Новости / Технологии
Исследователи из Университета Джонса Хопкинса представили новый метод производства чипов, использующий лазеры с длиной волны 6,5–6,7 нм (так называемое мягкое рентгеновское излучение). Эта технология, названная «Beyond-EUV» (B-EUV), потенциально может повысить разрешение литографических
Читать дальше →

ASML впервые участвует в выставке SEMICON India 2025 с комплексными решениями для литографии

/ Новости / Технологии
ASML, мировой лидер в области полупроводниковой литографии, впервые приняла участие в выставке SEMICON India 2025, подчеркнув свою приверженность поддержке растущей полупроводниковой промышленности Индии. Компания представила свой комплексный портфель литографических решений, который интегрирует
Читать дальше →
  • 0

Китай представил первый коммерческий электронный литограф с точностью 0,6 нм

/ Новости / Технологии
В Китае разработан первый коммерческий электронный литограф под названием «Сичжи» (Xizhi), который по точности соответствует мировым аналогам. Устройство предназначено для создания квантовых чипов и новых полупроводников. Аппарат, напоминающий большой стальной шкаф, был представлен на тестовой
Читать дальше →