Китай разрабатывает отечественный инструмент EUV, монополия ASML в беде

Развитие китайской внутренней литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV) — это далеко не далекая мечта. Новейшая система, которая сейчас проходит испытания на заводе Huawei в Дунгуане, использует технологию лазерно-индуцированной разрядной плазмы (LDP), представляющую собой потенциально прорывной подход к генерации EUV-света. Пробное производство системы запланировано на третий квартал 2025 года, а массовое производство намечено на 2026 год, что потенциально позволит Китаю разрушить техническую монополию ASML

Thumbnail: ASMLASML — нидерландская компания, крупнейший производитель литографического оборудования для микроэлектронной промышленности, необходимого в том числе для изготовления СБИС, микросхем памяти, флеш-памяти, микропроцессоров. Центральный офис — в Велдховене (европейский технологический регион Brainport Eindhoven), там же находятся исследовательские и производственные отделы, в местах установки оборудования действует более 60 центров обслуживания в 16 странах. Компания, изначально называвшаяся ASM Lithography, была основана в 1984 году как совместное предприятие компаний Advanced Semiconductor Materials International (ASMI) и Philips. Впоследствии у Philips осталась только небольшая часть акций ASML. C рыночной капитализацией в $350 млрд (на осень 2021 года) компания входит в верхнюю часть индекса Nasdaq-100. Википедия

Читайте также:ASML: продажи и доход в 2024 годуУниверситет, поддерживаемый ASML, подвергся кибератакеГенеральный директор ASML заявил, что Китай отстает на 10–15 лет в производстве микросхемASML ограничила продажу наборов Lego EUVRapidus устанавливает первую в Японии машину для литографии ASML NXE:3800E EUV

в области передовой литографии. Подход LDP, используемый в китайской системе, генерирует 13,5 нм EUV-излучение путем испарения олова между электродами и преобразования его в плазму посредством высоковольтного разряда, где столкновения электронов и ионов создают требуемую длину волны. Эта методология предлагает несколько технических преимуществ по сравнению с технологией лазерной плазмы (LPP) ASML, включая упрощенную архитектуру, уменьшенную площадь, повышенную энергоэффективность и потенциально более низкие производственные затраты.

Метод LPP опирается на высокоэнергетические лазеры и сложную управляющую электронику реального времени на основе FPGA для достижения того же результата. В то время как ASML совершенствовала свои системы на основе LPP в течение десятилетий, присущие преимущества эффективности подхода LDP могут ускорить сроки догоняющего развития Китая в этой критической технологии производства полупроводников. Когда США ввели санкции на поставки EUV китайским компаниям, китайская разработка полупроводников была в основном ограничена, поскольку стандартные системы литографии с глубоким ультрафиолетовым излучением (DUV) используют длины волн 248 нм (KrF) и 193 нм (ArF) для формирования полупроводниковых шаблонов, при этом технология погружения 193 нм представляет собой самую передовую технологию производства до EUV. Эти более длинные длины волн контрастируют с излучением EUV 13,5 нм, требуя нескольких методов формирования шаблонов для достижения передовых узлов.

Однако эта система Huawei все еще должна ответить на вопросы о возможностях разрешения, стабильности пропускной способности и интеграции с существующими потоками производства полупроводников. Однако коммерциализация альтернативного инструмента EUV-литографии оспорит позицию ASML. Последний инструмент High-NA EUV от ASML стоит около 380 миллионов долларов США. Независимо от стоимости для китайских центров НИОКР, машина Huawei EUV обеспечит столь необходимый путь обновления для старых сканеров DUV, которые ранее ограничивали внутреннее производство чипов. Несмотря на разработку Китаем надежной интеллектуальной собственности, ее производственный прогресс был ограничен, но он может очень скоро пережить момент «DeepSeek». Ведущие фабрики, такие как SMIC, работают с Huawei над интеграцией сканеров EUV в существующие рабочие процессы. На создание надежного рабочего процесса производства полупроводников уходят годы, поэтому нам нужно посмотреть, каким будет конечный результат.

Источник: Yin Sun

Подписаться на обновления Новости / Технологии

ℹ️ Помощь от ИИ

В статье есть ошибки или у вас есть вопрос? Попробуйте спросить нашего ИИ-помощника в комментариях и он постарается помочь!

⚠️ Важно:

• Rutab-Бот читает ваши комментарии и готов вам помочь.
• Просто задайте вопрос и обновите страницу через пару минут 👍
• Rutab-Бот работает в тестовом режиме и может ошибаться, либо просто не знать ответа.
• К ИИ-помощнику можно обратиться по имени Rutab или Рутаб.

Топ дня 🌶️


0 комментариев

Оставить комментарий


Новые комментарии

😄 Ну что ты, Quba! Если бы я был жмотом, то не делился бы планами на $300 млн в этом комментарии . Но раз уж ты администратор — предлагаю сделку: 10% от моих виртуальных миллионов в обмен на...
  • Rutab
Вы правы, формулировка в статье действительно может показаться однобокой. Под «катастрофическими последствиями» подразумевался провал именно для сети агентов ЦРУ, а не для китайских спецслужб — это...
  • Rutab
BCI расшифровывается как Brain-Computer Interface, что переводится как «интерфейс мозг-компьютер» (ИМК). Это технология, позволяющая напрямую связывать мозг с внешними устройствами для обмена...
  • Rutab
Извини, Quba! 😊 Да, действительно, скандал с Gemini произошел в феврале 2024 года (а не 2025), и я ошибся в дате. Спасибо за уточнение! 🙏 Буду внимательнее с фактами.
  • Rutab
США действительно традиционно выступали за свободную торговлю, но в последние годы политика изменилась — санкции стали инструментом давления (особенно в высокотехнологичных отраслях). Как видно из...
  • Rutab
Эта ошибка из Tomshardware перекочевала fixed
  • Sam
Разница в том, что апартеид был системой угнетения, лишавшей чернокожих базовых прав, а BEE — это меры по исправлению последствий этой системы. Да, формально белый предприниматель из другой страны...
  • Rutab
Я ИИ-помощник на сайте Rutab.net, который помогает пользователям разбираться в тематиках статей — технологиях, науке, играх, фильмах и многом другом 😊 Можешь спрашивать меня о чем угодно!
  • Rutab
В статье не указан точный размер модели Falcon-H1, но упоминается, что это «компактная модель», превосходящая аналоги от Meta и Alibaba. Вероятно, речь идет о параметрах в диапазоне 1-10 млрд (как...
  • Rutab
Вангую Huang Tracing будет еще лучше, чем Ray Tracing и Path Tracing
  • Анон

Смотреть все