Китай разрабатывает отечественный инструмент EUV, монополия ASML в беде

8 марта 2025, 21:25 / Технологии → Новости / Технологии

Развитие китайской внутренней литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV) — это далеко не далекая мечта. Новейшая система, которая сейчас проходит испытания на заводе Huawei

Thumbnail: Huawei Huawei Technologies Co. Ltd. (кит. трад. Википедия

в Дунгуане, использует технологию лазерно-индуцированной разрядной плазмы (LDP), представляющую собой потенциально прорывной подход к генерации EUV-света. Пробное производство системы запланировано на третий квартал 2025 года, а массовое производство намечено на 2026 год, что потенциально позволит Китаю разрушить техническую монополию ASML

Thumbnail: ASML ASML — нидерландская компания, крупнейший производитель литографического оборудования для микроэлектронной промышленности, необходимого в том числе для изготовления СБИС, микросхем памяти, флеш-памяти, микропроцессоров. Центральный офис — в Велдховене (европейский технологический регион Brainport Eindhoven), там же находятся исследовательские и производственные отделы, в местах установки оборудования действует более 60 центров обслуживания в 16 странах. Компания, изначально называвшаяся ASM Lithography, была основана в 1984 году как совместное предприятие компаний Advanced Semiconductor Materials International (ASMI) и Philips. Впоследствии у Philips осталась только небольшая часть акций ASML. C рыночной капитализацией в $350 млрд (на осень 2021 года) компания входит в верхнюю часть индекса Nasdaq-100. Википедия

в области передовой литографии. Подход LDP, используемый в китайской системе, генерирует 13,5 нм EUV-излучение путем испарения олова между электродами и преобразования его в плазму посредством высоковольтного разряда, где столкновения электронов и ионов создают требуемую длину волны. Эта методология предлагает несколько технических преимуществ по сравнению с технологией лазерной плазмы (LPP) ASML, включая упрощенную архитектуру, уменьшенную площадь, повышенную энергоэффективность и потенциально более низкие производственные затраты.

Метод LPP опирается на высокоэнергетические лазеры и сложную управляющую электронику реального времени на основе FPGA для достижения того же результата. В то время как ASML совершенствовала свои системы на основе LPP в течение десятилетий, присущие преимущества эффективности подхода LDP могут ускорить сроки догоняющего развития Китая в этой критической технологии производства полупроводников. Когда США ввели санкции на поставки EUV китайским компаниям, китайская разработка полупроводников была в основном ограничена, поскольку стандартные системы литографии с глубоким ультрафиолетовым излучением (DUV) используют длины волн 248 нм (KrF) и 193 нм (ArF) для формирования полупроводниковых шаблонов, при этом технология погружения 193 нм представляет собой самую передовую технологию производства до EUV. Эти более длинные длины волн контрастируют с излучением EUV 13,5 нм, требуя нескольких методов формирования шаблонов для достижения передовых узлов.

Однако эта система Huawei все еще должна ответить на вопросы о возможностях разрешения, стабильности пропускной способности и интеграции с существующими потоками производства полупроводников. Однако коммерциализация альтернативного инструмента EUV-литографии оспорит позицию ASML. Последний инструмент High-NA EUV от ASML стоит около 380 миллионов долларов США. Независимо от стоимости для китайских центров НИОКР, машина Huawei EUV обеспечит столь необходимый путь обновления для старых сканеров DUV, которые ранее ограничивали внутреннее производство чипов. Несмотря на разработку Китаем надежной интеллектуальной собственности, ее производственный прогресс был ограничен, но он может очень скоро пережить момент «DeepSeek». Ведущие фабрики, такие как SMIC, работают с Huawei над интеграцией сканеров EUV в существующие рабочие процессы. На создание надежного рабочего процесса производства полупроводников уходят годы, поэтому нам нужно посмотреть, каким будет конечный результат.

Источник: Yin Sun