Китай отстаёт в литографии чипов, заявляет влиятельный аналитический центр из Вашингтона

Китай сталкивается со значительными трудностями в развитии полупроводниковой литографии — ключевого препятствия на пути к технологической самодостаточности и лидерству в торговой войне с США.

Шанхайская компания SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment Group Co.), ведущий китайский производитель литографического оборудования, смогла занять лишь 4% рынка устаревших литографических систем, согласно данным Центра безопасности и новых технологий (CSET). Этот вашингтонский аналитический центр часто консультирует различные правительственные агентства США.

«Это демонстрирует, что литография остаётся критически важным узким местом», — написали исследователи CSET Джейкоб Фелдгойз и Ханна Домен в своём отчёте.

Голландская компания ASML, мировой лидер в производстве передовых литографических систем, не может поставлять в Китай свои новейшие установки для экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV) из-за многолетних экспортных ограничений, инициированных США. В 2023 году китайский технологический гигант Huawei шокировал американских политиков, представив чип с 7-нанометровым техпроцессом, произведённый на фабриках SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corp.). Однако дальнейший прогресс компании замедлился именно из-за нехватки современных литографических систем.

Исследователи CSET проанализировали данные о доходах компаний, предоставленные канадской консалтинговой фирме TechInsights. Отметим, что в исследование не вошли разработки, которые компании могут вести для внутреннего использования — например, собственные литографические проекты Huawei.