Rapidus устанавливает первую в Японии машину для литографии ASML NXE:3800E EUV

18 декабря 2024, 18:23 / Технологии → Новости / Технологии

Rapidus

Corporation, производитель передовых логических полупроводников, сегодня объявила о поставке и установке оборудования для литографии EUV от ASML

Thumbnail: ASML ASML — нидерландская компания, крупнейший производитель литографического оборудования для микроэлектронной промышленности, необходимого в том числе для изготовления СБИС, микросхем памяти, флеш-памяти, микропроцессоров. Центральный офис — в Велдховене (европейский технологический регион Brainport Eindhoven), там же находятся исследовательские и производственные отделы, в местах установки оборудования действует более 60 центров обслуживания в 16 странах. Компания, изначально называвшаяся ASM Lithography, была основана в 1984 году как совместное предприятие компаний Advanced Semiconductor Materials International (ASMI) и Philips. Впоследствии у Philips осталась только небольшая часть акций ASML. C рыночной капитализацией в $350 млрд (на осень 2021 года) компания входит в верхнюю часть индекса Nasdaq-100. Википедия

на своем литейном заводе Innovative Integration for Manufacturing (IIM-1), передовой фабрике по разработке и производству полупроводников, которая в настоящее время строится в Титосе, Хоккайдо. В ознаменование установки состоялась церемония в Portom Hall в новом аэропорту Титосе.

Это важная веха для полупроводниковой промышленности Японии, которая впервые будет использовать инструмент EUV-литографии для массового производства в стране. В дополнение к оборудованию EUV-литографии Rapidus установит дополнительное дополнительное передовое оборудование для производства полупроводников, а также полностью автоматизированные системы обработки материалов на своем литейном заводе IIM-1 для оптимизации производства полупроводников поколения 2 нм

Thumbnail: Технологический процесс в электронной промышленности Технологический процесс полупроводникового производства — технологический процесс по изготовлению полупроводниковых (п/п) изделий и материалов; часть производственного процесса по изготовлению п/п изделий (транзисторов, диодов и т. п.); состоит из: последовательности технологических (обработка, сборка) и контрольных операций. При производстве п/п изделий применяется фотолитография и литографическое оборудование. Разрешающая способность (в мкм и нм) этого оборудования (т. Википедия

gate-all-around (GAA).

EUV-литография является одной из ключевых технологий для реализации 2 нм полупроводников. Усовершенствованный процесс литографии имеет решающее значение для формирования структуры поколения 2 нм GAA.

Иммерсионное экспонирование ArF (193 нм) находится на переднем крае технологии EUV. Однако 2 нм и будущие узлы требуют еще более короткой длины волны (13,5 нм). Новейшее поколение технологии литографии EUV использует лазерные источники, оптические системы и фотошаблоны, которые намного точнее тех, которые использовались ранее. Оборудование для литографии EUV от ASML, установленное на литейном заводе Rapidus IIM-1, использует усовершенствованную оптическую систему с отражающей фотомаской и зеркальными линзами. Оно использует платформу TWINSCAN, которая выполняет выравнивание и сканирование на отдельных этапах, реализуя повышенную производительность при одновременном реагировании на уменьшение размеров транзисторов.

Пилотная линия будет запущена на предприятии IIM-1 компании Rapidus в апреле 2025 года. Для всего производственного оборудования будет внедрен однопластинчатый процесс, а Rapidus приступит к созданию новой службы литья полупроводников под названием Rapid and Unified Manufacturing Service (RUMS).

Источник: Rapidus