SK hynix внедрила первую в отрасли коммерческую систему литографии High NA EUV

Компания SK hynix Inc. объявила сегодня о сборке первой в отрасли системы литографии High NA EUV для массового производства на заводе M16 в Ичхоне, Южная Корея. На мероприятии по случаю сборки системы глава отдела исследований и разработок SK hynix Ча Сон Ён, глава отдела производственных технологий Ли Бёнки и глава клиентской группы ASML по работе с SK hynix в Японии Ким Бён Чан отметили ввод оборудования для производства DRAM следующего поколения.

Этот шаг закладывает основу для быстрой разработки и поставки передовых продуктов, отвечающих требованиям клиентов в условиях интенсивной конкуренции в глобальной полупроводниковой отрасли. SK hynix стремится повысить надежность и стабильность глобальной цепочки поставок за счет тесного сотрудничества с деловыми партнерами. Совершенная технология процесса для масштабирования ячеек памяти критически важна для повышения производительности и производительности продукции. Более сложный рисунок приводит к увеличению количества чипов, производимых из пластины, и улучшению энергоэффективности и производительности.

SK hynix расширяет сферу применения EUV для производства самых передовых DRAM с момента первого внедрения этой технологии в 2021 году для 1anm, четвертого поколения 10-нм техпроцесса. Сборка системы технологии следующего поколения, которая превосходит существующее оборудование EUV, происходит на фоне усилий компании по подготовке к требованиям отрасли к экстремальному масштабированию и высокой плотности.

TWINSCAN EXE:5200B, первая модель для серийного производства линейки продуктов High NA EUV от ASML, позволяет печатать транзисторы в 1,7 раза меньше и достигать плотности транзисторов в 2,9 раза выше по сравнению с существующей системой EUV, с улучшением числовой апертуры (NA) на 40% до 0,55 с 0,33.

С внедрением новой системы SK hynix планирует упростить существующий процесс EUV и ускорить разработку памяти следующего поколения для повышения производительности продукции и конкурентоспособности по стоимости. Компания также намерена укрепить свои позиции на рынке памяти высокой стоимости и усилить свое технологическое лидерство.

«High NA EUV — это критически важная технология, которая открывает следующую главу в полупроводниковой промышленности», — заявил Ким из ASML. «ASML будет тесно сотрудничать с SK hynix, чтобы приблизить инновации памяти следующего поколения».

«Мы ожидаем, что добавление критической инфраструктуры позволит воплотить в жизнь наше технологическое видение, которое мы преследовали», — сказал Ча из SK hynix. «Мы стремимся укрепить наше лидерство в области памяти для ИИ с помощью передовых технологий, необходимых быстрорастущим рынкам ИИ и вычислений следующего поколения».