Micron начала поставки первых образцов памяти LPDDR5X, произведённых по технологии EUV

Компания Micron объявила о начале поставок первых образцов памяти LPDDR5X, произведённых по новому 1γ (1-гамма) технологическому процессу с использованием EUV-литографии. Об этом стало известно во время конференц-колла с инвесторами и аналитиками на этой неделе. Новые чипы обещают быть более энергоэффективными, но что ещё важнее — это знаменует переход Micron к производству DRAM с применением EUV-литографии.

«Мы добились отличного прогресса в освоении нашего 1γ технологического процесса для DRAM, выход годных кристаллов растёт быстрее, чем это было с предыдущим 1β процессом», — заявил Санжай Мехротра, генеральный директор Micron. «В этом квартале мы достигли нескольких ключевых вех, включая первые квалификационные поставки образцов LPDDR5 DRAM на базе 1γ».

Техпроцесс 1γ представляет собой шестое поколение 10-нм класса от Micron. По сравнению с предыдущим поколением 1β, он позволяет снизить энергопотребление DRAM на 20% при увеличении производительности на 15%. Кроме того, плотность размещения битов увеличилась на 30%, что при достижении сопоставимого с 1β выхода годных может привести к значительному снижению себестоимости производства.

Примечательно, что LPDDR5X — не первые чипы Micron на базе 1γ. Ранее в этом году компания анонсировала 16 Гбит DDR5-9200 с улучшенными характеристиками, однако на этой неделе не предоставила обновлений по их тестированию. Со временем Micron планирует перевести на 1γ весь ассортимент своей памяти, включая DDR5, LPDDR5X (до 10.7 GT/s), GDDR7 и продукты для дата-центров.

«Мы внедрим 1γ во весь наш DRAM-портфель, чтобы воспользоваться преимуществами этой передовой технологии», — подчеркнул Мехротра.

Micron стала последним крупным производителем DRAM, внедрившим EUV-литографию в производство с процессом 1γ. Хотя компания не раскрывает, сколько слоёв используют EUV, скорее всего, она применяется только для самых сложных слоёв, где традиционная DUV-литография с мультипаттернингом была бы слишком затратной. Процесс 1γ сочетает EUV с традиционным DUV-мультипаттернингом, а также включает усовершенствованный high-k металлический затвор и переработанную back-end of line (BEOL) структуру.

В настоящее время Micron производит 1γ DRAM в Японии, где её первое EUV-оборудование было запущено в 2024 году, с планами расширения мощностей в Японии и Тайване.

Источник: Tomshardware.com