ASML устанавливает рекорд плотности с помощью новейшего оборудования EUV
ASML — нидерландская компания, крупнейший производитель литографического оборудования для микроэлектронной промышленности, необходимого в том числе для изготовления СБИС, микросхем памяти, флеш-памяти, микропроцессоров.
Центральный офис — в Велдховене (европейский технологический регион Brainport Eindhoven), там же находятся исследовательские и производственные отделы, в местах установки оборудования действует более 60 центров обслуживания в 16 странах.
Компания, изначально называвшаяся ASM Lithography, была основана в 1984 году как совместное предприятие компаний Advanced Semiconductor Materials International (ASMI) и Philips. Впоследствии у Philips осталась только небольшая часть акций ASML. C рыночной капитализацией в $350 млрд (на осень 2021 года) компания входит в верхнюю часть индекса Nasdaq-100. Википедия
Читайте также:США могут запретить нидерландским компаниям обслуживать китайское оборудование для выпуска чиповПравительство Нидерландов инвестирует 2,7 миллиарда долларов в ASMLКитай не нуждается в ASML для дальнейшего продвижения технологического прогрессаВласти США хотят помешать ASML обслуживать оборудование в КитаеASML представила машину для производства чипов по технологиям 2-нм и новее
«Наша система High-NA EUV в Вельдховене напечатала первые в истории линии толщиной 10 нанометров», — говорится в заявлении ASML. «Визуализация была сделана после того, как оптика, датчики и этапы завершили грубую калибровку. Далее: доведение системы до полной производительности. И достижение тех же результатов в полевых условиях».
«И́нтел» («Intel Corp.», МФА: [ˈɪntɛl ˌkɔːpə'reɪʃən]) — производитель электронных устройств и компьютерных компонентов (включая микропроцессоры, наборы системной логики (чипсеты) и др). Штаб-квартира — в Санта-Кларе (США, штат Калифорния). Википедия
Читайте также:США завершат распределение субсидий по «Закону о чипах» до конца годаFrostpunk 2 получит поддержку технологий улучшения изображения Nvidia DLSS и Intel XeSS сразу после выходаИнструменты Intel для ИИ значительно ускорили разработку Meteor LakeЗаконодатели США недовольны новейшим ноутбуком Huawei с процессорами Intel Meteor LakeEKWB представляет жидкостный охладитель для сверхгорячих процессоров Intel
Похоже, ASML является первой компанией, объявившей об успешном нанесении рисунка с использованием системы литографии High-NA EUV, что является важной вехой для всей полупроводниковой промышленности. ASML будет использовать Twinscan EXE:5000 только для собственных разработок и совершенствования своей технологии.
Напротив, Intel будет использовать Twinscan EXE:5000, чтобы научиться использовать EUV-литографию с высокой числовой апертурой для массового производства чипов. Intel будет использовать этот инструмент для целей исследований и разработок с помощью своей технологической технологии Intel 18A (класс 1,8 нм) и планирует внедрить сканеры следующего поколения Twinscan EXE:5200 для производства чипов на своем производственном узле 14A (класс 1,4 нм).
ASML Twinscan EXE:5200, оснащенный линзой с числовой апертурой 0,55, предназначен для печати чипов с разрешением 8 нм, что является значительным улучшением по сравнению с текущим разрешением 13 нм инструментов EUV. Эта технология позволяет печатать транзисторы в 1,7 раза меньше и достигать в 2,9 раза большей плотности транзисторов за одну экспозицию по сравнению с инструментами с низкой числовой апертурой.
Хотя системы с низкой числовой апертурой могут соответствовать этому разрешению, им приходится использовать дорогостоящую технику двойного шаблона. Переход на 8-нм техпроцесс имеет решающее значение для производства микросхем с нормой менее 3 нм, которые должны появиться в 2025–2026 годах. Внедрение технологии High-NA EUV призвано устранить необходимость в двойном нанесении EUV-структуры, тем самым оптимизируя производственные процессы, потенциально повышая производительность, и сокращение расходов. Однако инструменты с высокой числовой апертурой стоят до 400 миллионов долларов каждый и создают множество проблем, которые усложняют переход к передовым технологическим процессам (который должен произойти во второй половине десятилетия).
0 комментариев