TSMC вновь подтвердила свою позицию по поводу использования оборудования High-NA EUV для производства чипов по новейшим техпроцессам. Компания заявила, что не планирует применять эти литографические системы для узлов A16 (1,6 нм) и A14 (1,4 нм).«Людей всегда интересует, когда TSMC начнёт
Читать дальше →
