Intel 14A: первые отзывы клиентов обнадеживают

Хотя TSMC и Samsung под давлением США наращивают инвестиции, их ключевые технологии остаются за пределами американской юрисдикции. В производстве чипов с «американским акцентом» по-прежнему лидирует Intel, и её перспективный 14A-процесс, судя по всему, готовится к успеху.

В этом году Intel запустила в массовое производство 18A-техпроцесс, за которым последует его улучшенная версия 18A-P. На днях появились слухи, что Apple может доверить Intel производство своих базовых процессоров серии M, что привело к резкому росту акций компании на 10%.

Признаки улучшения ситуации в подразделении контрактного производства Intel выглядят обоснованными. Прогресс в разработке будущего 14A-процесса оценивается как более стабильный и оптимистичный, чем у 18A. Ранее руководство Intel заявляло, что на аналогичном этапе разработки 14A демонстрирует «значительное превосходство». Теперь и внешние клиенты, протестировавшие технологию, дают положительные отзывы, подтверждая её высокий потенциал.

14A-процесс является ключевым для Intel. В нём будет использоваться транзисторная технология GAA второго поколения, усовершенствованная система питания PowerDirect (развитие PowerVia), а также новейшие литографы High NA EUV. Это означает серьёзный технологический скачок.

Согласно официальным данным, по сравнению с 18A, процесс 14A обеспечивает прирост энергоэффективности на 15-20%, увеличение плотности транзисторов на 30% и значительное снижение энергопотребления на 25-35%.

В настоящее время для 14A уже выпущен предварительный PDK (Process Design Kit) версии 0.5. До выхода финальной версии и начала массового производства, запланированного на 2028 год, ещё есть время. Генеральный директор Intel Патрик Гелсингер ранее отмечал, что следующий год будет решающим: для принятия решения о строительстве новых фабрик компании необходимо привлечь крупного внешнего заказчика.

Интересный факт: Техпроцесс 14A станет первым для Intel, использующим транзисторы с затвором со всех сторон (GAA) второго поколения. Эта архитектура, уже применяемая конкурентами, позволяет лучше контролировать ток и снижать утечки, что критически важно для дальнейшей миниатюризации чипов. Кроме того, переход на литографию High NA EUV — это следующий эволюционный шаг в производстве полупроводников, который позволит создавать ещё более мелкие и сложные структуры на кристалле.