Японская компания DNP представила наноимпринт-технологию для производства 1,4-нм чипов

Японская компания DNP (Dai Nippon Printing) объявила о разработке новой наноимпринт-литографии (NIL) с разрешением 10 нанометров. Эта технология позволяет напрямую переносить схемы на подложку и, по заявлению компании, может использоваться для производства логических чипов по техпроцессу 1,4 нм.

Технология DNP использует метод самосовмещающегося двойного паттернирования (SADP). Комбинация однократной экспозиции и двукратного формирования паттерна позволяет создавать чипы с удвоенной точностью, что соответствует требованиям передовых производственных процессов. Ключевым преимуществом разработчики называют значительно более низкое энергопотребление — примерно в 10 раз меньше по сравнению с текущими основными технологиями.

DNP работает над технологией NIL более 20 лет. Нынешняя разработка позиционируется как частичная альтернатива экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV) и предлагает производителям чипов новый вариант для высокоточного производства. Компания уже сотрудничает с поставщиками оборудования для оценки технологии.

«Эта технология может использоваться для 1,4-нм техпроцесса», — заявили в DNP.

Ожидается, что после завершения валидации у клиентов и создания системы массового производства и поставок, серийный выпуск продукции с использованием этой технологии начнётся в 2027 году.