ASML и Imec вместе разработают технологии суб-2 нм
ASML — нидерландская компания, крупнейший производитель литографического оборудования для микроэлектронной промышленности, необходимого в том числе для изготовления СБИС, микросхем памяти, флеш-памяти, микропроцессоров.
Центральный офис — в Велдховене (европейский технологический регион Brainport Eindhoven), там же находятся исследовательские и производственные отделы, в местах установки оборудования действует более 60 центров обслуживания в 16 странах.
Компания, изначально называвшаяся ASM Lithography, была основана в 1984 году как совместное предприятие компаний Advanced Semiconductor Materials International (ASMI) и Philips. Впоследствии у Philips осталась только небольшая часть акций ASML. C рыночной капитализацией в $350 млрд (на осень 2021 года) компания входит в верхнюю часть индекса Nasdaq-100. Википедия
Читайте также:ASML и imec будут вместе развивать полупроводники в ЕвропеКитай разрабатывает отечественный инструмент EUV, монополия ASML в бедеASML: продажи и доход в 2024 годуУниверситет, поддерживаемый ASML, подвергся кибератакеГенеральный директор ASML заявил, что Китай отстает на 10–15 лет в производстве микросхем
В рамках партнерства Imec получит доступ к широкому спектру передового оборудования для изготовления пластин (WFE) от ASML, включая топовые Twinscan NXT (DUV), Twinscan NXE (инструменты Low-NA EUV с числовой апертурой 0,33) и Twinscan EXE (инструменты High-NA EUV с числовой апертурой 0,55) литографические системы. Кроме того, imec включит в свои мощности оптические метрологические решения YieldStar от ASML и одно- и многолучевые инспекционные инструменты HMI.
Эти инструменты будут установлены на пилотной линии Imec в Бельгии и включены в пилотную линию NanoIC, финансируемую ЕС и Фландрией.
Последнее поколение оборудования от ASML будет использоваться для разработки технологий производства полупроводников следующего поколения, в частности технологий изготовления суб-2 нм. Считается, что для эффективного производства на узлах изготовления ниже 2 нм литографические инструменты должны поддерживать разрешение 8 нм с одной экспозицией, чего могут достичь только инструменты High-NA EUV. Однако каждая система High-NA EUV стоит 350 миллиардов долларов, что делает невозможным ее приобретение новыми игроками или исследователями.
Изображение: Imec
Исследователи ASML и Imec ранее работали с инструментами High-NA (0,55 NA EUV) в основном в специализированных исследовательских центрах ASML в Велдховене, Нидерланды. ASML установила эти машины High-NA EUV первого поколения на своих собственных объектах для первоначальных испытаний, оценок и совместных исследований с Imec и другими партнерами.
Теперь, в соответствии с новым соглашением, imec получит прямой доступ на месте к оборудованию High-NA в рамках своих собственных исследовательских линий в Лёвене, Бельгия, в частности, в своем современном пилотном центре и пилотной линии NanoIC, финансируемой ЕС и Фландрией. Это первый раз, когда исследователи Imec могут использовать технологию High-NA EUV непосредственно на своем собственном объекте, что ускорит их работу. Предоставление Imec доступа к технологии High-NA EUV было включено в проект Next Gen-7A (IPCEI22201) и финансировалось правительством Нидерландов как важный проект общего европейского интереса (IPCEI).
«Мы рады продолжить наше давнее уникальное партнерство с ASML, предлагая отрасли доступ к самым передовым решениям в области шаблонизации на протяжении более 30 лет», — заявляет Люк Ван ден Хов, президент и генеральный директор Imec. «Включение полного портфеля продуктов ASML позволит нам расширить и еще больше усовершенствовать возможности нашей пилотной линии, предоставляя всей экосистеме полупроводников самые передовые НИОКР для решения задач технологических достижений, основанных на ИИ. Поскольку Imec уделяет большое внимание устойчивым инновациям, то явное включение этого в наше партнерство является отличным дополнением».
Помимо совместной работы над узлами следующего поколения с нормами менее 2 нм для логических микросхем, ASML и Imec планируют сотрудничать в области технологий DRAM, кремниевой фотоники и передовых решений в области корпусирования.
Источник: Tomshardware.com
0 комментариев