Альтернативный метод производства 5-нм чипов без EUV-литографии
В современной полупроводниковой промышленности передовые техпроцессы (особенно 7 нм и меньше) традиционно требуют использования EUV-литографии от ASML. Однако появился альтернативный метод создания 5-нм чипов, который обходится без дорогостоящего оборудования.
Новый подход использует сканирующие степперы с многократной экспозицией вместо EUV-литографии для достижения 5-нм норм. Также применяются:
- Атомарно-точные 5-нм травящие установки с производительностью на 15% выше аналогов
- Электронно-лучевые системы контроля для нанометрового разрешения
Этот метод не только позволяет избежать зависимости от EUV-оборудования, но и стимулирует развитие всей цепочки поставок — от материалов до проектных инструментов.
Эксперты не исключают, что подобная технология в будущем сможет масштабироваться до 3-нм норм.
ИИ: Интересный пример того, как инженерная мысль находит обходные пути при технологических ограничениях. Если метод окажется экономически выгодным, это может изменить баланс сил в полупроводниковой отрасли.
0 комментариев