ASML отправила неустановленному клиенту свой второй литографический инструмент EUV
ASML — нидерландская компания, крупнейший производитель литографического оборудования для микроэлектронной промышленности, необходимого в том числе для изготовления СБИС, микросхем памяти, флеш-памяти, микропроцессоров. Центральный офис — в Велдховене (европейский технологический регион Brainport Eindhoven), там же находятся исследовательские и производственные отделы, в местах установки оборудования действует более 60 центров обслуживания в 16 странах. Компания, изначально называвшаяся ASM Lithography, была основана в 1984 году как совместное предприятие компаний Advanced Semiconductor Materials International (ASMI) и Philips. Впоследствии у Philips осталась только небольшая часть акций ASML. C рыночной капитализацией в $350 млрд (на осень 2021 года) компания входит в верхнюю часть индекса Nasdaq-100. Википедия
Читайте также:ASML устанавливает рекорд плотности с помощью новейшего оборудования EUVСША могут запретить нидерландским компаниям обслуживать китайское оборудование для выпуска чиповПравительство Нидерландов инвестирует 2,7 миллиарда долларов в ASMLКитай не нуждается в ASML для дальнейшего продвижения технологического прогрессаВласти США хотят помешать ASML обслуживать оборудование в Китае
«Что касается High-NA, или 0,55 NA EUV, мы отправили нашу первую систему заказчику, и эта система в настоящее время находится в стадии установки», — сказал Кристоф Фуке, главный коммерческий директор ASML, на конференц-связи компании с аналитиками и инвесторами. «В этом месяце мы начали поставку второй системы, и скоро начнется ее установка».
«И́нтел» («Intel Corp.», МФА: [ˈɪntɛl ˌkɔːpə'reɪʃən]) — производитель электронных устройств и компьютерных компонентов (включая микропроцессоры, наборы системной логики (чипсеты) и др). Штаб-квартира — в Санта-Кларе (США, штат Калифорния). Википедия
Читайте также:США завершат распределение субсидий по «Закону о чипах» до конца годаFrostpunk 2 получит поддержку технологий улучшения изображения Nvidia DLSS и Intel XeSS сразу после выходаИнструменты Intel для ИИ значительно ускорили разработку Meteor LakeЗаконодатели США недовольны новейшим ноутбуком Huawei с процессорами Intel Meteor LakeEKWB представляет жидкостный охладитель для сверхгорячих процессоров Intel
«Во время февральской отраслевой конференции SPIE мы анонсировали первые сведения о нашей системе High-NA, расположенной в нашей совместной лаборатории ASML-Imec High-NA в Вельдховене», — заявил Фуке. «С тех пор мы получили первые изображения с новым рекордным разрешением ниже 10 нм и планируем начать экспонирование пластин в ближайшие недели. Все клиенты с высокой числовой апертурой будут использовать эту систему для раннего доступа к разработке процессов».
Хотя TSMC и Rapidus, похоже, не спешат внедрять системы литографии High-NA EUV для массового производства, им все равно придется сделать это когда-нибудь в будущем, поэтому ASML с оптимизмом смотрит в будущее этой технологии. Фактически, крупнейший в мире производитель инструментов для изготовления пластин изучает инструменты Hyper-NA, EUV-литографии с проекционной оптикой и числовой апертурой выше 0,7.
«Интерес клиентов к нашей системной лаборатории [High-NA] высок, поскольку эта система поможет нашим клиентам как в области логики, так и в области памяти подготовиться к включению High-NA в свои планы», — сказал Фуке. «По сравнению с числовой апертурой 0,33, система с числовой апертурой 0,55 обеспечивает более высокое разрешение, позволяя почти в 3 раза увеличить плотность транзисторов при аналогичной производительности при поддержке узлов логики менее 2 нм и узлов DRAM менее 10 нм».
0 комментариев