Компания TSMC перепрофилирует свою старую 8-дюймовую фабрику Fab 3 в Научном парке Синьчжу для производства пленок (pellicles) для экстремального ультрафиолетового (EUV) литографического оборудования, что позволит наладить этот процесс внутри компании. EUV-пленка представляет собой тонкую,
Читать дальше →
Компания Micron объявила о начале поставок первых образцов памяти LPDDR5X, произведённых по новому 1γ (1-гамма) технологическому процессу с использованием EUV-литографии. Об этом стало известно во время конференц-колла с инвесторами и аналитиками на этой неделе. Новые чипы обещают быть более
Читать дальше →
Intel представила свою стратегию использования технологии High-NA EUV на конференции Intel Foundry Direct 2025. Компания планирует применять этот метод в производстве 14A-чипов, но оставляет запасной вариант с использованием стандартного Low-NA EUV.Intel уже получила второй инструмент High-NA EUV,
Читать дальше →
