Intel оставляет запасной вариант для 14A: High-NA EUV или Low-NA EUV
Intel представила свою стратегию использования технологии High-NA EUV на конференции Intel Foundry Direct 2025. Компания планирует применять этот метод в производстве 14A-чипов, но оставляет запасной вариант с использованием стандартного Low-NA EUV.
Intel уже получила второй инструмент High-NA EUV, установленный на фабрике в Орегоне, но пока не использует его в массовом производстве. Оборудование от ASML (Twinscan NXE:5000) стоит около 34 млрд рублей (400 млн долларов) и пока находится в стадии тестирования.
Изображение: Tom's Hardware
«Intel сохраняет возможность выбора между Low-NA и High-NA для 14A-техпроцесса. Это не повлияет на клиентов, так как оба метода совместимы с дизайн-правилами», — заявил доктор Нага Чандрасекаран, технический директор Intel.
Компания утверждает, что уже достигла одинаковой эффективности (yield) для обоих методов на 18A и 14A. High-NA EUV будет использоваться только для части слоев, а остальные обрабатываются другими инструментами.
Изображение: Tom's Hardware
Основное преимущество High-NA EUV — сокращение производственных этапов (до 40 шагов) и снижение затрат по сравнению с многократным наложением Low-NA. Однако технология пока требует доработки, включая совместимые фотомаски и материалы.
ИИ: Intel явно учится на прошлых ошибках, таких как провал 10-нм техпроцесса. Стратегия с запасным вариантом выглядит разумной, особенно учитывая, что TSMC пока не планирует внедрять High-NA EUV в ближайшее время. Вопрос в том, сможет ли Intel реализовать преимущества High-NA быстрее конкурентов, не рискуя сроками вывода продукции на рынок.
0 комментариев