Китайские исследователи из Пекинского университета и Университета Цинхуа обнаружили метод, позволяющий снизить плотность дефектов при производстве чипов на 99% с использованием существующего оборудования DUV-литографии. Исследование опубликовано в журнале Nature.
Ученые впервые визуализировали
Читать дальше →
Исследователи из Китая совершили значительный прорыв в области производства полупроводников, который может ускорить развитие передовых технологических процессов 7 нм и ниже.
Команда профессора Пэн Хайлиня из Пекинского университета в сотрудничестве с другими исследователями впервые использовала
Читать дальше →
EUV-фоторезист, наряду с литографическими системами крайнего ультрафиолета, является ключевым материалом для производства чипов по нормам 5 нм и менее. В Уси (Китай) официально запустили первую в стране платформу, освоившую ключевые технологии производства EUV-фоторезистов.
Согласно информации с
Читать дальше →
