EUV-фоторезист, наряду с литографическими системами крайнего ультрафиолета, является ключевым материалом для производства чипов по нормам 5 нм и менее. В Уси (Китай) официально запустили первую в стране платформу, освоившую ключевые технологии производства EUV-фоторезистов.
Согласно информации с
Читать дальше →
