Прорыв в создании микрочипов: учёные разработали технологию для схем размером менее 10 нм
Глобальная исследовательская группа открыла новый способ создания сверхмалых схем с использованием металлоорганической химии и продвинутых световых пучков, открывая путь к микрочипам следующего поколения. Credit: Shutterstock
Исследователи из Университета Джонса Хопкинса совершили прорыв в создании микрочипов, разработав новые материалы и процесс производства, который позволит создавать схемы невидимые невооружённым глазом. Открытие опубликовано 11 сентября в журнале Nature Chemical Engineering.
Команда учёных обнаружила, что резисты из нового класса металло-органических соединений могут взаимодействовать с высокоэнергетическим излучением B-EUV (сверхэкстремальным ультрафиолетовым излучением), что позволяет создавать детали размером менее текущего стандарта в 10 нанометров.
«Компании имеют свои дорожные карты того, где они хотят быть через 10-20 лет и далее. Одним из препятствий был поиск процесса создания меньших элементов в производственной линии», — пояснил Майкл Цапатсис, профессор химического и биомолекулярного инженерии.
Новая методика, названная химическим жидкостным осаждением (CLD), позволяет точно наносить металло-органические резисты на кремниевые пластины с нанометровой точностью. Исследователи уже начали экспериментировать с различными комбинациями металлов и органических соединений для создания оптимальных пар для излучения B-EUV, которое, как ожидается, будет использоваться в производстве в следующие 10 лет.
В исследовании участвовали учёные из Университета Джонса Хопкинса, Восточно-китайского университета науки и технологий, Федеральной политехнической школы Лозанны, Сучжоуского университета, Брукхейвенской национальной лаборатории и Национальной лаборатории Лоуренса в Беркли.
0 комментариев