EUV-инструменты с высокой апертурой стоят $400 млн

15 апреля 2025, 11:44 / Технологии → Новости / Технологии

Литография High-NA EUV стоит безумных 380 миллионов долларов, но она может реально сократить общие производственные затраты в правильных ситуациях. На конференции SPIE Advanced Lithography and Patterning в феврале 2025 года исследователи IBM в Вельдховене показали, что одна экспозиция с высокой NA стоит примерно в 2,5 раза дороже стандартной экспозиции с низкой NA. Это кажется крутым, но реальная сила High-NA проявляется, когда она заменяет сложные процессы многошаблонного моделирования. В прошлом году SemiAnalysis предсказала, что High-NA не станет рентабельной до 2030 года, в основном потому, что более высокие требования к дозе замедляют производительность на самых сложных слоях. Однако после изучения новых данных IBM фирма скорректировала свой прогноз. Их модель подтверждает, что придерживаться двойного шаблона Low-NA для последовательностей с двумя масками остается самым дешевым путем.

С другой стороны, как только вам понадобятся три или более масок Low‑NA, переключение на один проход High‑NA начинает окупаться. Фактически, для четырехшаблонного самосовмещенного потока литографического травления High‑NA может снизить общую стоимость пластины примерно в 1,7–2,1 раза по сравнению с использованием многошаблонного Low‑NA. Одна из главных причин, по которой фабрики заинтересованы, заключается в том, что меньшее количество экспозиций означает более простые технологические потоки. Вы сокращаете время цикла и снижаете вероятность ошибок наложения. Тем не менее, SemiAnalysis предупреждает, что более простой поток не означает автоматически более низкие расходы в каждом случае. Рассматривая Intel 14A, оказывается, что только несколько критических металлических слоев в узле 14A попадают в золотую середину, где более высокая стоимость за один выстрел High‑NA перевешивается отказом от нескольких масок.

Intel — единственный крупный литейный завод, который пока объявил о планах по производству High-NA в больших объемах, сосредоточившись на ключевых слоях A14. Тем временем ASML

Thumbnail: ASML ASML — нидерландская компания, крупнейший производитель литографического оборудования для микроэлектронной промышленности, необходимого в том числе для изготовления СБИС, микросхем памяти, флеш-памяти, микропроцессоров. Центральный офис — в Велдховене (европейский технологический регион Brainport Eindhoven), там же находятся исследовательские и производственные отделы, в местах установки оборудования действует более 60 центров обслуживания в 16 странах. Компания, изначально называвшаяся ASM Lithography, была основана в 1984 году как совместное предприятие компаний Advanced Semiconductor Materials International (ASMI) и Philips. Впоследствии у Philips осталась только небольшая часть акций ASML. C рыночной капитализацией в $350 млрд (на осень 2021 года) компания входит в верхнюю часть индекса Nasdaq-100. Википедия

работает над более крупными масками 6 × 12 дюймов, которые могут повысить производительность и сократить накладные расходы на сшивку. Чтобы составить план узлов следующего поколения, производители микросхем должны взвесить количество экспозиций, скорость инструмента и достижения в технологии масок и резистов, прежде чем решить, стоит ли вкладывать средства в High-NA. В настоящее время Intel обработала 30 000 пластин в ходе пробного запуска узла 14A, все они были сделаны с помощью инструмента Twinscan EXE:5000 High-NA от ASML. К тому времени, когда узел 14A достигнет массового производства, у нас будет окончательная информация о жизнеспособности High-NA в среде HVM.

Источник: SemiAnalysis