Пэт Гелсингер использует ускорители частиц для производства чипов

13 апреля 2025, 15:06 / Технологии → Новости / Технологии

Легендарный технический директор и генеральный директор Intel Пэт Гелсингер теперь занимает должность исполнительного председателя в xLight, стартапе, который разрабатывает технологию лазера на свободных электронах (FEL) в качестве источника света для систем литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV). Использование ускорителя частиц для генерации света для литографических машин — это то, что обсуждалось ранее, но xLight утверждает, что может создать такой источник к 2028 году, сохранив совместимость с существующими инструментами.

«В рамках моей новой роли в Playground Global я присоединился к xLight в качестве исполнительного председателя совета директоров», — написал Гелсингер в сообщении на LinkedIn. «Я буду тесно сотрудничать с Николасом Келезом и командой, чтобы создать самые мощные в мире лазеры на свободных электронах (ЛСЭ), используя технологию ускорителей частиц».

Изображение: xLight

EUV-литография — это передовая технология, используемая в производстве полупроводников для создания чрезвычайно малых — мы говорим о разрешении 8 нм для EUV с высокой числовой апертурой и ~13 нм для EUV с низкой числовой апертурой — схемных рисунков на кремниевых пластинах, которые используют EUV-свет с длиной волны 13,5 нм

5 nm (рус. 5 нм)[прояснить] — маркетинговое название технологии для производства микросхем. В Международном плане по развитию полупроводниковой технологии 5-нм техпроцесс упомянут как технология MOSFET, следующая за 7-нанометровым процессом. В 2020 году Samsung и TSMC начали массовое производство 5-нм чипов, производимых для компаний Apple, Marvell, Huawei и Qualcomm. Википедия

. В настоящее время только ASML

Thumbnail: ASML ASML — нидерландская компания, крупнейший производитель литографического оборудования для микроэлектронной промышленности, необходимого в том числе для изготовления СБИС, микросхем памяти, флеш-памяти, микропроцессоров. Центральный офис — в Велдховене (европейский технологический регион Brainport Eindhoven), там же находятся исследовательские и производственные отделы, в местах установки оборудования действует более 60 центров обслуживания в 16 странах. Компания, изначально называвшаяся ASM Lithography, была основана в 1984 году как совместное предприятие компаний Advanced Semiconductor Materials International (ASMI) и Philips. Впоследствии у Philips осталась только небольшая часть акций ASML. C рыночной капитализацией в $350 млрд (на осень 2021 года) компания входит в верхнюю часть индекса Nasdaq-100. Википедия

может создавать EUV-литографические системы, и они используют сложный способ получения света с длиной волны 13,5 нм. Но существует более одного способа создания света с чрезвычайно короткой длиной волны для производства чипов с разрешением 8 нм ~ 13,5 нм. Один из них — использовать ускоритель частиц в качестве источника света с лазерной плазмой (LPP).

xLight создала источник LPP, который обеспечивает мощность в четыре раза большую, чем у самых современных систем, доступных сегодня, согласно сообщению Гелсингера. Twinscan NXE:3600D от ASML имеет источник LPP мощностью 250 Вт, тогда как NXE:3800E оснащен источником ~300 Вт. Хотя ASML продемонстрировала мощность источника EUV свыше 500 Вт в исследовательских условиях, эти более высокие уровни мощности пока недоступны в коммерческих системах. Тем не менее, ASML продолжает работать над увеличением мощности источника EUV, планируя удвоить выходную мощность до 600 Вт и имея дорожную карту, выходящую за пределы 1000 Вт. По-видимому, xLight Gelsinger утверждает, что у компании есть источник LPP, который сегодня превышает 1000 Вт и будет готов для коммерческого применения к 2028 году.

Gelsinger утверждает, что технология xLight сокращает затраты на пластину примерно на 50% и снижает как капитальные, так и эксплуатационные расходы в три раза, что является крупным скачком в эффективности производства. Хотя мы знаем примерную цену Twinscan NXE:3800E от ASML (около 240–250 миллионов долларов США), мы не можем точно предположить цену одного только источника света. Между тем, утверждение о том, что новый источник LPP может снизить капитальные затраты и эксплуатационные расходы в три раза, может потенциально означать существенное снижение стоимости литографического инструмента на основе FEL по сравнению с сегодняшними машинами от ASML.

Говоря об ASML, важно отметить, что xLight не ставит своей целью заменить литографические инструменты EUV от ASML, а производит источник LPP, который «будет подключен к сканеру ASML и запущенным пластинам к 2028 году». Это может означать, что источник LPP от xLight будет совместим с существующими инструментами ASML, но неясно, будет ли он совместим с инструментами High-NA EUV следующего поколения (скорее всего, да, поскольку они используют те же источники LPP, что и существующие инструменты Low-NA EUV). Также еще предстоит выяснить, можно ли подключить источник LPP от xLight к машинам TwinScan в производственных средах.

Помните, что фабрики строятся для размещения определенных инструментов, и в случае систем EUV с низкой числовой апертурой это означает, что источник света

Thumbnail: Источник света Источник света — любой объект, излучающий электромагнитную энергию в видимой области спектра. По своей природе подразделяются на искусственные и естественные. Согласно принципу Гюйгенса-Френеля источники света по механизму распространения волны подразделяются на первичные (искусственные и естественные) и вторичные (отраженные). В физике идеализированы моделями точечных и непрерывных источников света. Википедия

располагается под самой машиной, тогда как в случае инструмента EUV с высокой числовой апертурой его источник LPP располагается на том же уровне, поэтому любой «сторонний» источник LPP должен учитывать эти факты. На данный момент ускоритель частиц выглядит довольно большим для существующих фабрик, поэтому FEL, вероятно, применим для следующего поколения фабрик, если он докажет свою эффективность.

Примечательно, что хотя xLight считает, что ее технология FEL представляет собой многомиллиардную возможность в долгосрочной перспективе, она также открывает краткосрочный доход в других ключевых областях. Компания считает, что ее системы хорошо подходят для мощных метрологических и инспекционных инструментов. Возможно, даже за пределами полупроводников, поскольку она может решать проблемы в области национальной безопасности и биотехнологий: от точечной обороны и контроля космического мусора до медицинской визуализации и научных исследований.

Источник: Tomshardware.com