Пэт Гелсингер использует ускорители частиц для производства чипов

Легендарный технический директор и генеральный директор Intel Пэт Гелсингер теперь занимает должность исполнительного председателя в xLight, стартапе, который разрабатывает технологию лазера на свободных электронах (FEL) в качестве источника света для систем литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV). Использование ускорителя частиц для генерации света для литографических машин — это то, что обсуждалось ранее, но xLight утверждает, что может создать такой источник к 2028 году, сохранив совместимость с существующими инструментами.

«В рамках моей новой роли в Playground Global я присоединился к xLight в качестве исполнительного председателя совета директоров», — написал Гелсингер в сообщении на LinkedIn. «Я буду тесно сотрудничать с Николасом Келезом и командой, чтобы создать самые мощные в мире лазеры на свободных электронах (ЛСЭ), используя технологию ускорителей частиц».

Изображение: xLight

xLight создала источник LPP, который обеспечивает мощность в четыре раза большую, чем у самых современных систем, доступных сегодня, согласно сообщению Гелсингера. Twinscan NXE:3600D от ASML имеет источник LPP мощностью 250 Вт, тогда как NXE:3800E оснащен источником ~300 Вт. Хотя ASML продемонстрировала мощность источника EUV свыше 500 Вт в исследовательских условиях, эти более высокие уровни мощности пока недоступны в коммерческих системах. Тем не менее, ASML продолжает работать над увеличением мощности источника EUV, планируя удвоить выходную мощность до 600 Вт и имея дорожную карту, выходящую за пределы 1000 Вт. По-видимому, xLight Gelsinger утверждает, что у компании есть источник LPP, который сегодня превышает 1000 Вт и будет готов для коммерческого применения к 2028 году.

Gelsinger утверждает, что технология xLight сокращает затраты на пластину примерно на 50% и снижает как капитальные, так и эксплуатационные расходы в три раза, что является крупным скачком в эффективности производства. Хотя мы знаем примерную цену Twinscan NXE:3800E от ASML (около 240–250 миллионов долларов США), мы не можем точно предположить цену одного только источника света. Между тем, утверждение о том, что новый источник LPP может снизить капитальные затраты и эксплуатационные расходы в три раза, может потенциально означать существенное снижение стоимости литографического инструмента на основе FEL по сравнению с сегодняшними машинами от ASML.

Говоря об ASML, важно отметить, что xLight не ставит своей целью заменить литографические инструменты EUV от ASML, а производит источник LPP, который «будет подключен к сканеру ASML и запущенным пластинам к 2028 году». Это может означать, что источник LPP от xLight будет совместим с существующими инструментами ASML, но неясно, будет ли он совместим с инструментами High-NA EUV следующего поколения (скорее всего, да, поскольку они используют те же источники LPP, что и существующие инструменты Low-NA EUV). Также еще предстоит выяснить, можно ли подключить источник LPP от xLight к машинам TwinScan в производственных средах.

Примечательно, что хотя xLight считает, что ее технология FEL представляет собой многомиллиардную возможность в долгосрочной перспективе, она также открывает краткосрочный доход в других ключевых областях. Компания считает, что ее системы хорошо подходят для мощных метрологических и инспекционных инструментов. Возможно, даже за пределами полупроводников, поскольку она может решать проблемы в области национальной безопасности и биотехнологий: от точечной обороны и контроля космического мусора до медицинской визуализации и научных исследований.

Источник: Tomshardware.com