Intel обработала 30 000 пластин EUV машинами с высокой числовой апертурой

25 февраля 2025, 21:42 / Технологии → Новости / Технологии

Intel

Thumbnail: Intel «И́нтел» («Intel Corp.», МФА: [ˈɪntɛl ˌkɔːpə'reɪʃən]) — производитель электронных устройств и компьютерных компонентов (включая микропроцессоры, наборы системной логики (чипсеты) и др). Штаб-квартира — в Санта-Кларе (США, штат Калифорния). Википедия

успешно развернула две передовые системы литографии ASML

Thumbnail: ASML ASML — нидерландская компания, крупнейший производитель литографического оборудования для микроэлектронной промышленности, необходимого в том числе для изготовления СБИС, микросхем памяти, флеш-памяти, микропроцессоров. Центральный офис — в Велдховене (европейский технологический регион Brainport Eindhoven), там же находятся исследовательские и производственные отделы, в местах установки оборудования действует более 60 центров обслуживания в 16 странах. Компания, изначально называвшаяся ASM Lithography, была основана в 1984 году как совместное предприятие компаний Advanced Semiconductor Materials International (ASMI) и Philips. Впоследствии у Philips осталась только небольшая часть акций ASML. C рыночной капитализацией в $350 млрд (на осень 2021 года) компания входит в верхнюю часть индекса Nasdaq-100. Википедия

High-NA Twinscan EXE:5000 EUV на своем исследовательском объекте D1 около Хиллсборо, штат Орегон, обработав около 30 000 пластин за один квартал. Системы High-NA EUV, каждая из которых, как сообщается, оценивается в 380 миллионов долларов, представляют собой существенное улучшение по сравнению с предыдущими инструментами литографии, достигая разрешения до 8 нм при одной экспозиции по сравнению с разрешением 13,5 нм текущих систем Low-NA. Ранние эксплуатационные данные показывают, что эти машины примерно в два раза надежнее предыдущих поколений EUV, решая проблемы надежности, которые ранее сдерживали производственный прогресс Intel. Возможность выполнения с одной экспозицией того, что ранее требовало трех экспозиций и около 40 этапов обработки, была сокращена до всего лишь «одноразрядных» этапов обработки.

Intel исторически была одним из первых, кто принял литографию EUV с высокой числовой апертурой, гораздо более агрессивную стратегию, чем ее конкуренты, такие как TSMC, которая производит свой передовой кремний с использованием инструментов EUV с низкой числовой апертурой. Компания планирует использовать эти системы для своего предстоящего процесса производства чипов 14A, хотя конкретная дата массового производства не была объявлена. Хотя ASML классифицирует эти системы Twinscan EXE:5000 как предпроизводственные инструменты, не предназначенные для массового производства, обширная обработка пластин Intel является скорее испытательным стендом. Раннее принятие предоставляет Intel ценные возможности для разработки в различных аспектах производства EUV с высокой числовой апертурой, включая стекло для фотошаблонов, пленки и специализированные химикаты, которые могут установить будущие отраслевые стандарты. Текущий узел Intel 18A использует инструменты литографии с низкой числовой апертурой, где Intel изучает High-NA только для тестирования, прежде чем перейти к производству в больших объемах 14A с помощью EUV с высокой числовой апертурой.