Canon поставляет инструмент для нанолитографии в американский институт
Canon (яп. キヤノン株式会社 Кянон кабусики-гайся, «Кэ́нон») — японская транснациональная машиностроительная компания со штаб-квартирой в Токио (Япония). Занимается оптико-механическим и электронным производством устройств для фиксации, обработки и печати изображений, медицинского диагностического оборудования, а также разработкой решений в области информационных технологий и телевещания. На конец 2016 года группа компаний Canon включала 367 консолидированное дочернее общество, в ней работают около 198 тысяч человек по всему миру. Википедия
Читайте также:Shin Megami Tensei V: Vengeance разошлась тиражом более 500 тысяч копий за первые три дня продажНовинка от Canon: фотокамера PowerShot SX620 HS с диапазоном ЭФР 25-625 мм
«И́нтел» («Intel Corp.», МФА: [ˈɪntɛl ˌkɔːpə'reɪʃən]) — производитель электронных устройств и компьютерных компонентов (включая микропроцессоры, наборы системной логики (чипсеты) и др). Штаб-квартира — в Санта-Кларе (США, штат Калифорния). Википедия
Читайте также:MSI выпускает новую версию BIOS для процессоров Intel Core 13-го и 14-го поколенийКитайский процессор Zhaoxin KX-7000 не может превзойти старые чипы Intel и AMDПроцессоры Intel Arrow Lake поступили в продажу на китайском рынкеIntel начинает сокращать объемы недвижимости по всему мируIntel устранит причину нестабильности Raptor Lake
На выставке TIE система наноимпринт-литографии FPA -1200NZ2C компании Canon будет использоваться для исследований и разработок производителями микросхем в консорциуме — что является важным событием, поскольку в настоящее время Intel, NXP и Samsung используют литографию DUV и EUV (кроме NXP) для производства микросхем. Изучая возможности наноимпринт-литографии, эти компании могут принять или не принять технологию NIL на своих фабриках. Canon, безусловно, возлагает большие надежды на эти испытания — поскольку, по данным Nikkei, она нацелена на ежегодные продажи в размере 10–20 единиц в течение следующих трех-пяти лет.
Традиционные системы фотолитографии DUV и EUV используют свет для проецирования рисунка схемы с фотошаблона на пластину, покрытую резистом. Напротив, наноимпринтная литография напрямую штампует форму — уже с рисунком схемы — на резист. Это позволяет избежать необходимости в оптической системе, что позволяет более точно воспроизводить сложные конструкции всего за один шаг, что может снизить производственные затраты. Однако, в то время как литография обрабатывает целые пластины сразу, NIL работает последовательно и может быть медленнее. По данным Canon, NIL в настоящее время способна производить чипы с технологией 5 нм и в конечном итоге может достичь узлов 2 нм.
Однако перед тем, как технология NIL получит широкое распространение, предстоит решить множество проблем. Все еще существуют опасения по поводу минимизации дефектов от частиц пыли во время производства. Кроме того, Canon необходимо будет сотрудничать с другими компаниями для создания материалов, совместимых с этим новым методом литографии, что получит важное значение для широкого использования в промышленности. Наконец, NIL несовместим с потоками, включающими DUV или EUV, что делает невозможным (или, по крайней мере, очень сложным) его интеграцию в существующие производственные потоки — поэтому производителям микросхем придется проектировать свои производственные технологии вокруг NIL (а это и дорого, и рискованно).
Источник: Tomshardware.com
0 комментариев