SMEE запатентовала инструмент для производства чипов EUV

/ ТехнологииНовости / Технологии

ASML, единственный в мире производитель инструментов для изготовления чипов EUV-литографии, никогда не поставлял инструменты EUV своим основным китайским клиентам из-за Вассенаарского соглашения и последних экспортных правил, это не означает, что китайские производители никогда не смогут создавать собственные инструменты для изготовления чипов EUV. На этой неделе выяснилось, что Shanghai Microelectronics Equipment (SMEE) подала заявку на патент, охватывающий машину EUV-литографии, сообщает South China Morning Post.

Патент, поданный SMEE в марте 2023 года, фокусируется на «генераторах экстремального ультрафиолетового (EUV) излучения и литографическом оборудовании». Основываясь на описании SCMP, SMEE пытается запатентовать ключевой набор компонентов инструмента EUV: источник EUV лазерной плазмы (LPP). Источник LPP EUV включает источник света CO2, который наносится на крошечные капли олова диаметром около 30 микрон в специальной камере для создания ионизированной газовой плазмы при электронной температуре в несколько десятков электрон-вольт, которая затем собирается специальным зеркалом, покрытым несколькими слоями молибдена и кремния для избирательного отражения 13,5 нм EUV-света.

Shanghai Microelectronics Equipment (SMEE) — ведущий китайский производитель литографического оборудования. На данный момент компания поставляет клиентам в Китае свой самый передовой литографический инструмент SSX600, который можно использовать для производства чипов по 90-нм, 110-нм и 280-нм техпроцессам. В прошлом году компания заявила, что собирается продемонстрировать систему с поддержкой 28 нм в 2023 году, хотя неясно, начала ли она массовое производство этого инструмента.

EUV-литография используется для изготовления чипов по передовым технологическим процессам, таким как 7 нм

7 nm (рус. 7 нм) — маркетинговое название технологии для производства микросхем. Основывается на технологии FinFET (fin field-effect transistor), разновидности технологии MOSFET с несколькими затворами. В Международном плане по развитию полупроводниковой технологии 7-нам-технологический процесс упомянут как технология MOSFET, следующая за 10-нанометровым процессом. Википедия

, 6 нм, 5 нм, 4 нм и 3 нм. В настоящее время SMIC

Thumbnail: SMICSemiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) — китайская компания, занимающаяся производством микроэлектроники, крупнейшая микроэлектронная компания континентального Китая. Компания зарегистрирована на Каймановых островах, штаб-квартира расположена в Шанхае (КНР). Основана в 2000 году. Компания в настоящее время имеет наиболее передовое и развитое производство чипов в Китае: она производит СБИС по техпроцессам от 7 нм и начала рисковое производство по 7-нм техпроцессу в конце 2020 года. Википедия

Читайте также:Проблемы с чипами ИИ у Huawei: отчетВозможный избыток мощностей в китайском секторе микросхемКонкуренция производителей чипов в Китае снижает ценыКитайская компания SMIC становится вторым по величине в мире производителем полупроводниковHuawei выпускает новый 7-нм процессор Kirin 9010 — чип установлен в смартфоне Huawei Pura 70

производит процессоры по своим технологическим процессам 2-го поколения 7 нм, используя иммерсионную DUV-литографию и многошаблонное нанесение, что неэффективно с точки зрения производственного цикла и создает множество рисков с точки зрения выхода годных. Однако у SMIC и ее партнера Huawei нет иного выбора, кроме как продолжать использовать DUV-литографию с многошаблонным нанесением для производственных узлов класса 7 нм, а затем для 5 нм и, возможно, даже 3 нм.

Подача патента SMEE представляет собой значительный шаг вперед в усилиях Китая по разработке собственных инструментов EUV-литографии. Хотя трудно сказать, когда компания создаст хотя бы одну производственную систему EUV, которую можно будет использовать для производства чипов в больших объемах, очевидно, что она делает успехи в направлении инструментов EUV-литографии.

Shanghai Microelectronics Equipment — не единственная компания в Китае, которая подала патент на EUV-литографию. Huawei подала патент, связанный с системой EUV, в Китае еще в 2022 году. Эти патенты знаменуют собой важную веху в стремлении Китая развивать независимые возможности производства полупроводников. Если SMEE когда-либо произведет передовые инструменты DUV и EUV, это поможет Китаю снизить зависимость от иностранных фирм, таких как ASML, и укрепить свои позиции на мировом рынке полупроводников.

Следует помнить, что во многих случаях патенты подаются задолго до коммерциализации. Инструмент EUV-литографии — это сверхсложная машина, использующая десятки высокотехнологичных прорывов, сделанных за три десятилетия. Сможет ли SMEE совершить те же прорывы всего за несколько лет? Время покажет.

Источник: Tomshardware.com

Подписаться на обновления Новости / Технологии

0 комментариев

Оставить комментарий


Новые комментарии

Указан неверный диаметр вентиляторов, не 80 мм, а 100 мм. И чип не 103, а 102.
  • Анон
С прошлым обновлением как раз и появилась эта ошибка. А новое как и написано не дают скачать.
  • Анон
При включении 3D Turbo Mode у вас максимум будет доступно 8 ядер и 8 потоков всего. т.е. если у вас 16 ядерный на 32 потока то будет всего 8 ядер и 8 потоков! Странная оптимизация!
  • Анон
После скачивания вышел синий экран СУПЕР!
  • Анон
требуется указать магазин и purchase date без этого не регистрирует
  • Анон
Россия на них клала❤❤❤❤, будет называться Ладушка 2.0 )))
  • Анон
ДА у меня тоже неработает уже все Вы не знаете каким способом вернуть все обратно СПАСИ
  • Анон
Хаетв Рустам Базарвич Хаетв
  • Анон
Очень довольна приложением. Пользуюсь сама и рекомендую другим.
16 способ - Ноутбук HP ProBook 4740s автоматически установлена камера HP HD Webcam [Fixed] при этом онлайн из браузера подключается камера к веб страницам, камера работает. С приложениями камера...
  • Анон

Смотреть все