ASML раскрывает планы по литографии в экстремальном ультрафиолете следующего поколения «Hyper-NA»
ASML — нидерландская компания, крупнейший производитель литографического оборудования для микроэлектронной промышленности, необходимого в том числе для изготовления СБИС, микросхем памяти, флеш-памяти, микропроцессоров.
Центральный офис — в Велдховене (европейский технологический регион Brainport Eindhoven), там же находятся исследовательские и производственные отделы, в местах установки оборудования действует более 60 центров обслуживания в 16 странах.
Компания, изначально называвшаяся ASM Lithography, была основана в 1984 году как совместное предприятие компаний Advanced Semiconductor Materials International (ASMI) и Philips. Впоследствии у Philips осталась только небольшая часть акций ASML. C рыночной капитализацией в $350 млрд (на осень 2021 года) компания входит в верхнюю часть индекса Nasdaq-100. Википедия
Читайте также:В нидерландском Велдховене откроется лаборатория ASMLASML устанавливает новый рекорд плотности производства микросхем и предлагает инструменты Hyper-NAIntel рискует понести большие убытки, сделав ставку на новое оборудование ASMLASML готова вывести из строя своё передовое оборудование на Тайване в случае вторжения КитаяImec создаст экспериментальную линию для разработки техпроцессов менее 2 нм
Hyper-NA сам по себе создает проблемы для коммерциализации. К основным препятствиям относятся эффекты поляризации света, которые ухудшают контрастность изображения и требуют поляризационных фильтров, которые уменьшают пропускную способность света. Материалы резиста, возможно, также должны стать тоньше, чтобы сохранить разрешение. В то время как ведущие производители микросхем EUV, такие как TSMC, вероятно, смогут расширить масштабирование еще на несколько узлов, используя многошаблонирование с помощью существующих инструментов EUV 0,33 NA, Intel внедрила 0,55 High-NA, чтобы избежать этих сложностей. Но Hyper-NA, вероятно, станет незаменимым во всей отрасли в конце этого десятилетия, когда будут достигнуты физические пределы High-NA. Помимо Hyper-NA, существует несколько альтернативных решений для создания рисунка, кроме дорогой многолучевой электронной литографии, которой не хватает производительности EUV-фотолитографии. Чтобы продолжить классическое масштабирование, отрасли, возможно, придется в конечном итоге перейти к новым материалам каналов с превосходными свойствами подвижности электронов по сравнению с кремнием, что потребует новых возможностей осаждения и травления.
Источник: Techpowerup.com
0 комментариев