Новая технология позволяет создавать микросхемы невидимые глазу

Исследователи из Университета Джонса Хопкинса разработали революционную методику производства микросхем, которая позволяет создавать схемы настолько маленькие, что они невидимы невооружённым глазом. Открытие опубликовано в журнале Nature Chemical Engineering.

Кремниевая пластина с узорами, созданными с помощью B-EUV литографии. Автор: Синьпей Чжоу, Университет Джонса Хопкинса

Учёные обнаружили новые материалы и процесс, способный продвинуть производство более мелких, быстрых и доступных микросхем, используемых во всей современной электронике — от смартфонов до автомобилей и бытовой техники.

«Компании имеют свои дорожные карты того, где они хотят быть через 10-20 лет и далее. Одним из препятствий был поиск процесса создания более мелких деталей в производственной линии», — пояснил Майкл Цапацис, профессор химического и биомолекулярного инжиниринга.

Новая методика, названная химическим жидкостным осаждением (CLD), позволяет с нанометровой точностью наносить металло-органические резисты на кремниевые пластины. Эти материалы особенно эффективно взаимодействуют с излучением «сверх крайнего ультрафиолета» (B-EUV), необходимым для создания деталей размером менее 10 нанометров.

«Занимаясь двумя компонентами (металлом и имидазолом), можно изменять эффективность поглощения света и химию последующих реакций. Это открывает нам возможности для создания новых металло-органических пар», — отметил Цапацис.

Исследователи уже начали экспериментировать с различными комбинациями металлов и органических соединений, специально предназначенными для B-EUV излучения, которое, как ожидается, будет использоваться в производстве в следующие 10 лет.