Китайская компания разрабатывает литографическую машину для производства чипов
ASML — нидерландская компания, крупнейший производитель литографического оборудования для микроэлектронной промышленности, необходимого в том числе для изготовления СБИС, микросхем памяти, флеш-памяти, микропроцессоров.
Центральный офис — в Велдховене (европейский технологический регион Brainport Eindhoven), там же находятся исследовательские и производственные отделы, в местах установки оборудования действует более 60 центров обслуживания в 16 странах.
Компания, изначально называвшаяся ASM Lithography, была основана в 1984 году как совместное предприятие компаний Advanced Semiconductor Materials International (ASMI) и Philips. Впоследствии у Philips осталась только небольшая часть акций ASML. C рыночной капитализацией в $350 млрд (на осень 2021 года) компания входит в верхнюю часть индекса Nasdaq-100. Википедия
Читайте также:SMEE запатентовала инструмент для производства чипов EUVПравительство Нидерландов восстанавливает экспортный контроль над фабричными инструментами ASMLСША разрешили экспорт оборудования в КитайASML: продажи и чистая прибыль во II квартале 2024 годаПродолжительность чиповой войны США и Китая
Две машины представляют собой устройства глубокой ультрафиолетовой (DUV) литографии с использованием лазеров на фториде аргона. Одна работает на длине волны 193 нм, обеспечивая разрешение ниже 65 нм и точность наложения менее 8 нм. Другая работает на длине волны 248 нм, с разрешением 110 нм и точностью наложения 25 нм.
Лучший китайский литографический инструмент, который в настоящее время производится в больших объемах компанией Shanghai Microelectronics Equipment (SMEE) — SSX600 — может производить чипы по 90-нм техпроцессу. Таким образом, один из новых инструментов DUV лучше, чем SSX600, а другой хуже, чем SSX600. Однако они значительно отстают от NXT:1980Fi от ASML и NSR-S636E от Nikon. Наименее продвинутая машина DUV от ASML, которая в настоящее время производится, имеет разрешение ниже 38 нм и точность наложения всего 1,3 нм. Самый продвинутый инструмент Nikon также имеет разрешение 38 нм и производительность наложения 2,1 нм.
| Ячейка заголовка - Столбец 0 | NXT:1980Fi | NSR-S636E | Инструмент для литографии 1 | Инструмент для литографии 2 |
|---|---|---|---|---|
| Источник света | АрФ 193нм | АрФ 193нм | АрФ 193нм | ArF 248 нм |
| Разрешение | 38 нм | 38 нм | 65 нм | 110 нм |
| Проекционная оптика | 1.35 НД | 1.35 НД | ? | ? |
| Вафли в час | 330 | 280 | ? | ? |
| Наложение производительности | 1.3 нм | 2.1нм | 8 нм | 25 нм |
Новые системы представляют собой прорыв в отечественных усилиях по производству чипов в Китае, но машины пока не поступили в продажу. Министерство промышленности и информационных технологий (MIIT) подчеркнуло эти достижения, но не раскрыло компании, ответственные за машины.
Кита́йская Наро́дная Респу́блика (КНР) (кит. трад. 中華人民共和國, упр. 中华人民共和国, пиньинь: Zhōnghuá Rénmín Gònghéguó, палл.: Чжунхуа Жэньминь Гунхэго), часто также сокращённо Кита́й (кит. Википедия
Читайте также:Арестованы экс-руководители Samsung за краденые технологии памяти для завода в КитаеКитай вложил в оборудование для производства микросхем больше, чем конкурентыРост цен на редкоземельные металлы из-за ограничений КитаяИгровое кафе в Китае страдает от проблем с 2023 годаКонсоли PS5 распродаются в Китае благодаря Black Myth: Wukong
SMEE, государственная компания, рассматривается как лучший шанс Китая разработать внутренние литографические системы. Однако SMEE значительно отстает от ASML и других мировых конкурентов. В прошлом году SMEE продемонстрировала литографический инструмент, способный производить чипы с использованием 28-нм техпроцессов. Однако компании еще предстоит начать массовое производство этой системы.
Несмотря на эти проблемы, SMEE добилась успехов. В марте 2023 года компания подала патент на технологию EUV-литографии. Эта разработка демонстрирует определенный прогресс, несмотря на препятствия, вызванные международными санкциями и торговыми ограничениями.
Источник: Tomshardware.com
0 комментариев