Японские учёные разрабатывают более дешёвые EUV-сканеры

Упрощенная конструкция с двумя зеркалами также обещает повышенную стабильность и ремонтопригодность. В то время как традиционные системы EUV часто требуют мощности более 1 мегаватта, модель OIST может достичь сопоставимых результатов, потребляя всего 100 киловатт. Несмотря на свою простоту, система поддерживает высокую контрастность и уменьшает трехмерные эффекты маски, что имеет решающее значение для достижения нанометровой точности в производстве полупроводников. OIST подал заявку на патент на эту технологию и планирует ее практическое внедрение посредством демонстрационных экспериментов. Прогнозируется, что мировой рынок EUV-литографии вырастет с 8,9 миллиардов долларов в 2024 году до 17,4 миллиардов долларов к 2030 году, когда ожидается, что большинство узлов будут использовать сканеры EUV. Напротив, один EUV-сканер ASML может стоить до 380 миллионов долларов без учета эксплуатационных расходов, что очень высоко из-за энергопотребления высокоэнергетических излучателей ультрафиолетового света. Обычные EUV-сканеры также теряют 40% ультрафиолетового света, идущего к следующему зеркалу, и только 1% исходного источника света достигает кремниевой пластины. И это при потреблении более одного мегаватта энергии. Однако с предлагаемой недорогой системой EUV более 10% энергии поступает на пластину, и ожидается, что новая система будет потреблять менее 100 киловатт энергии, а ее стоимость составит менее 100 миллионов долларов США. от флагмана ASML.