Японские учёные разрабатывают более дешёвые EUV-сканеры

7 августа 2024, 10:45 / Технологии → Новости / Технологии

Японский профессор Цумору Синтаке из Окинавского института науки и технологий (OIST) представил революционную технологию литографии в крайнем ультрафиолете (EUV), которая обещает значительно снизить затраты на производство полупроводников. Новая технология решает две ранее непреодолимые проблемы EUV-литографии. Во-первых, он представляет оптимизированную оптическую проекционную систему, использующую всего два зеркала, что является значительным упрощением по сравнению с обычными шестью и более зеркалами. Во-вторых, он использует новый метод «поля двойной линии», позволяющий эффективно направлять EUV-свет на фотомаску, не загораживая оптический путь. Конструкция профессора Шинтаке предлагает существенные преимущества по сравнению с существующими машинами для литографии EUV. Он может работать с меньшими источниками света EUV, потребляя менее одной десятой мощности, необходимой обычным системам. Такое снижение энергопотребления также снижает эксплуатационные расходы (OpEx), которые обычно высоки на предприятиях по производству полупроводников.

Упрощенная конструкция с двумя зеркалами также обещает повышенную стабильность и ремонтопригодность. В то время как традиционные системы EUV часто требуют мощности более 1 мегаватта, модель OIST может достичь сопоставимых результатов, потребляя всего 100 киловатт. Несмотря на свою простоту, система поддерживает высокую контрастность и уменьшает трехмерные эффекты маски, что имеет решающее значение для достижения нанометровой точности в производстве полупроводников. OIST подал заявку на патент на эту технологию и планирует ее практическое внедрение посредством демонстрационных экспериментов. Прогнозируется, что мировой рынок EUV-литографии вырастет с 8,9 миллиардов долларов в 2024 году до 17,4 миллиардов долларов к 2030 году, когда ожидается, что большинство узлов будут использовать сканеры EUV. Напротив, один EUV-сканер ASML

Thumbnail: ASML ASML — нидерландская компания, крупнейший производитель литографического оборудования для микроэлектронной промышленности, необходимого в том числе для изготовления СБИС, микросхем памяти, флеш-памяти, микропроцессоров. Центральный офис — в Велдховене (европейский технологический регион Brainport Eindhoven), там же находятся исследовательские и производственные отделы, в местах установки оборудования действует более 60 центров обслуживания в 16 странах. Компания, изначально называвшаяся ASM Lithography, была основана в 1984 году как совместное предприятие компаний Advanced Semiconductor Materials International (ASMI) и Philips. Впоследствии у Philips осталась только небольшая часть акций ASML. C рыночной капитализацией в $350 млрд (на осень 2021 года) компания входит в верхнюю часть индекса Nasdaq-100. Википедия

может стоить до 380 миллионов долларов без учета эксплуатационных расходов, что очень высоко из-за энергопотребления высокоэнергетических излучателей ультрафиолетового света. Обычные EUV-сканеры также теряют 40% ультрафиолетового света, идущего к следующему зеркалу, и только 1% исходного источника света достигает кремниевой пластины. И это при потреблении более одного мегаватта энергии. Однако с предлагаемой недорогой системой EUV более 10% энергии поступает на пластину, и ожидается, что новая система будет потреблять менее 100 киловатт энергии, а ее стоимость составит менее 100 миллионов долларов США. от флагмана ASML.