Патент Huawei: планы на технологический процесс класса 3 нм

Когда в начале этого года Huawei и Semiconductor Manufacturing International Co. (SMIC

Thumbnail: SMICSemiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) — китайская компания, занимающаяся производством микроэлектроники, крупнейшая микроэлектронная компания континентального Китая. Компания зарегистрирована на Каймановых островах, штаб-квартира расположена в Шанхае (КНР). Основана в 2000 году. Компания в настоящее время имеет наиболее передовое и развитое производство чипов в Китае: она производит СБИС по техпроцессам от 7 нм и начала рисковое производство по 7-нм техпроцессу в конце 2020 года. Википедия

Читайте также:Конкуренция производителей чипов в Китае снижает ценыКитайская компания SMIC становится вторым по величине в мире производителем полупроводниковHuawei выпускает новый 7-нм процессор Kirin 9010 — чип установлен в смартфоне Huawei Pura 70Власти США хотят помешать ASML обслуживать оборудование в КитаеSMIC и Huawei могут использовать четырехкратный рисунок для китайских 5-нм чипов

) запатентовали методы литографии с самовыравнивающимся четырехкратным рисунком (SAQP) для производства передовых микрочипов, большинство предполагало, что компании работают над созданием чипов, используя свой производственный процесс класса 5 нм. Судя по всему, это не предел их планов, поскольку Huawei теперь рассчитывает использовать четырехкратное паттернирование и для 3-нм производственной технологии.

SiCarrier, поддерживаемый государством разработчик оборудования для производства чипов, работающий с Huawei, также запатентовал технологию создания нескольких шаблонов, подтвердив планы SMIC использовать эту технологию для будущих узлов. Такие эксперты, как Дэн Хатчесон из TechInsights, предполагают, что, хотя SAQP может позволить Китаю производить чипы класса 5 нм, машины EUV получат важное значение для долгосрочной конкурентоспособности за пределами этих узлов. Эксперты отрасли никогда не предполагали использования четырехкратного структурирования для узлов 3-нм класса.

Технологический процесс класса 7 нм предполагает шаг металла 36–38 нм, а узлы класса 5 нм уменьшают шаг металла до 30–32 нм. При 3 нм шаг металла достигнет примерно 21–24 нм. Это позволит достичь критических размеров примерно 12 нм для крупносерийного производства, чего не могут достичь даже инструменты EUV с низким числом апертур без использования двойного рисунка. Тем не менее, похоже, что Huawei и SMIC планируют добиться этого с помощью SAQP, используя инструменты DUV.

SAQP имеет решающее значение для Huawei и SMIC, поскольку у них нет доступа к передовым инструментам литографии, таким как ASML Twinscan NXT:2100i и Twinscan NXE:3400C/3600D/3800E. Это связано с правилами экспорта, введенными Нидерландами, причем США являются основным инициатором ограничений. SAQP предполагает многократное травление линий на кремниевых пластинах для увеличения плотности транзисторов, снижения энергопотребления и повышения производительности. Этот подход отражает предыдущие попытки Intel в 2019–2021 годах не полагаться на машины для литографии в крайнем ультрафиолете (EUV) с узлом 10-нм класса (позже переименованным в «Intel 7»).

Несмотря на потенциальные преимущества, использование SAQP сопряжено с трудными проблемами. 10-нм техпроцесс Intel первого поколения потерпел неудачу, по крайней мере частично, из-за этого метода. Ходили слухи, что производительность была настолько низкой, что единственный 10-нм процессор Canon Lake имел только два ядра, а встроенная графика была отключена. Однако для SMIC SAQP необходим для прогресса в области полупроводниковых технологий, позволяющего производить более сложные чипы, включая процессоры HiSilicon Kirin следующего поколения для потребительских устройств и процессоры Ascend для серверов искусственного интеллекта.

Хотя стоимость 5-нм или 3-нм чипа с использованием SAQP почти наверняка будет выше, что сделает его менее осуществимым (если вообще осуществимым) для коммерческих устройств, этот метод остается жизненно важным для достижений Китая в области полупроводниковых технологий. Эти достижения важны не только для бытовой электроники, но и для таких приложений, как суперкомпьютеры, и, возможно, для развития военного потенциала.

Подписаться на обновления Новости / Технологии

ℹ️ Помощь от ИИ

В статье есть ошибки или у вас есть вопрос? Попробуйте спросить нашего ИИ-помощника в комментариях и он постарается помочь!

⚠️ Важно:

• Rutab-Бот читает ваши комментарии и готов вам помочь.
• Просто задайте вопрос и обновите страницу через пару минут 👍
• Rutab-Бот работает в тестовом режиме и может ошибаться, либо просто не знать ответа.
• К ИИ-помощнику можно обратиться по имени Rutab или Рутаб.

Топ за 24 часа 🌶️


0 комментариев

Оставить комментарий


Новые комментарии

а разве рыцари Круглого стола и викинги не были чернокожими???
  • Анон
игра с формированием ложного самомнения через подхалимаж. ---По образу и подобию .....
  • Анон
Если игра упирается в производительность видеокарты, то хоть заускоряй процессор, а FPS больше не будет. Я у себя на синтетических тестах получил лишь меньшую задержку памяти. В играх практически...
  • Анон
Всё в порядке с физикой: источник может быть меньше четверти длины волны. Даже одиночный ион в ионной ловушке может излучать видимый свет (а размер меньше 0.2нм).
  • Анон
Можно делать смартфоны и планшеты на этом процессоре и наконец то использовать полноценную windows. Это отличная замена процессорам arm
  • Анон
Странно почему не 50 долларов.
  • Анон
Понимаю мощь производительность и все дела, но как черт возьми тепло отделять от камня если его прям нагрузить
  • Анон
Не предвзятость это - "Интересно, что Arc B580 проигрывает RTX 4060 в OpenCL" - где разница на невероятных 3,5 %, "но реабилитируется с НЕЗНАЧИТЕЛЬНЫМ 6%-ным преимуществом в Vulkan.". Не...
  • Анон
И теперь нельзя отключить авто обновление!!! Это жесть
  • Анон
Не знаю, я купил Cougar850 80Gold за 10К₽ и нормально
  • Анон

Смотреть все