Патент Huawei: планы на технологический процесс класса 3 нм
Huawei Technologies Co. Ltd. (кит. трад. Википедия
Читайте также:Huawei вынудила Nvidia продавать свои ИИ-ускорители в Китае с большими скидкамиHuawei использует Kirin 9000C в настольных ПК вместо Intel Alder LakeС 2024 года Qualcomm прекратит поставки своих компонентов компании HuaweiQualcomm: мы не ожидаем получения дохода от продуктов Huawei после 2024 годаHuawei опровергла планы по выпуску процессоров Kirin X после потери доступа к чипам Intel
Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) — китайская компания, занимающаяся производством микроэлектроники, крупнейшая микроэлектронная компания континентального Китая. Компания зарегистрирована на Каймановых островах, штаб-квартира расположена в Шанхае (КНР). Основана в 2000 году. Компания в настоящее время имеет наиболее передовое и развитое производство чипов в Китае: она производит СБИС по техпроцессам от 7 нм и начала рисковое производство по 7-нм техпроцессу в конце 2020 года. Википедия
Читайте также:Конкуренция производителей чипов в Китае снижает ценыКитайская компания SMIC становится вторым по величине в мире производителем полупроводниковHuawei выпускает новый 7-нм процессор Kirin 9010 — чип установлен в смартфоне Huawei Pura 70Власти США хотят помешать ASML обслуживать оборудование в КитаеSMIC и Huawei могут использовать четырехкратный рисунок для китайских 5-нм чипов
SiCarrier, поддерживаемый государством разработчик оборудования для производства чипов, работающий с Huawei, также запатентовал технологию создания нескольких шаблонов, подтвердив планы SMIC использовать эту технологию для будущих узлов. Такие эксперты, как Дэн Хатчесон из TechInsights, предполагают, что, хотя SAQP может позволить Китаю производить чипы класса 5 нм, машины EUV получат важное значение для долгосрочной конкурентоспособности за пределами этих узлов. Эксперты отрасли никогда не предполагали использования четырехкратного структурирования для узлов 3-нм класса.
Технологический процесс класса 7 нм предполагает шаг металла 36–38 нм, а узлы класса 5 нм уменьшают шаг металла до 30–32 нм. При 3 нм шаг металла достигнет примерно 21–24 нм. Это позволит достичь критических размеров примерно 12 нм для крупносерийного производства, чего не могут достичь даже инструменты EUV с низким числом апертур без использования двойного рисунка. Тем не менее, похоже, что Huawei и SMIC планируют добиться этого с помощью SAQP, используя инструменты DUV.
«И́нтел» («Intel Corp.», МФА: [ˈɪntɛl ˌkɔːpə'reɪʃən]) — производитель электронных устройств и компьютерных компонентов (включая микропроцессоры, наборы системной логики (чипсеты) и др). Штаб-квартира — в Санта-Кларе (США, штат Калифорния). Википедия
Читайте также:Материнские платы MSI Z890 и B860 для Intel Arrow Lake-S просочились в онлайн-базу данныхIntel анонсировала конференцию Innovation 2024. Там расскажут о новых чипах Core Ultra 200Intel отказывается от процессоров, которые убили первый суперкомпьютер AuroraСообщается, что AMD меняет бренд будущего процессора Ryzen на аналогичный IntelIntel рискует понести большие убытки, сделав ставку на новое оборудование ASML
Несмотря на потенциальные преимущества, использование SAQP сопряжено с трудными проблемами. 10-нм техпроцесс Intel первого поколения потерпел неудачу, по крайней мере частично, из-за этого метода. Ходили слухи, что производительность была настолько низкой, что единственный 10-нм процессор Canon Lake имел только два ядра, а встроенная графика была отключена. Однако для SMIC SAQP необходим для прогресса в области полупроводниковых технологий, позволяющего производить более сложные чипы, включая процессоры HiSilicon Kirin следующего поколения для потребительских устройств и процессоры Ascend для серверов искусственного интеллекта.
Хотя стоимость 5-нм или 3-нм чипа с использованием SAQP почти наверняка будет выше, что сделает его менее осуществимым (если вообще осуществимым) для коммерческих устройств, этот метод остается жизненно важным для достижений Китая в области полупроводниковых технологий. Эти достижения важны не только для бытовой электроники, но и для таких приложений, как суперкомпьютеры, и, возможно, для развития военного потенциала.
0 комментариев