Недавно генеральный директор TSMC Вэй Чжэцзя заявил, что компания не будет приобретать High NA EUV-литографические сканеры, что вызвало падение акций ASML. Как самый передовой производитель микросхем, TSMC оказывает значительное влияние на будущее High NA EUV-оборудования.На недавнем собрании
Читать дальше →
Производство чипов — невероятно сложный процесс, который становится ещё сложнее для удовлетворения потребностей в более миниатюрных и сложных микросхемах. Для печати и масштабирования этих кремниевых «мыслящих машин» требуются литографические установки. Литографические инструменты High Numerical
Читать дальше →
