Intel начала разработку техпроцессов 10A и 7A для следующего десятилетия

Генеральный директор Intel Лип-Бу Тан на этой неделе подтвердил, что компания уже приступила к разработке технологических процессов 10A и 7A, которые придут на смену текущему 18A и следующему 14A в следующем десятилетии. Оба процесса, вероятно, будут использовать литографические инструменты ASML EUV с оптикой высокой числовой апертуры (High-NA), которые впервые будут применяться для 14A.

«Сейчас я начинаю работать над 10A, 7A, дорожной картой», — заявил Лип-Бу Тан на конференции JP Morgan Global Technology, Media and Communications. «Люди не просто приходят к вам, они ищут дорожную карту на будущее. Поэтому мы хотим построить долгосрочный бизнес. […]».

Тан подчеркнул давно известную деловую практику: амбициозные и правильно реализованные дорожные карты так же важны, как конкурентоспособные продукты или технологии производства, поскольку многие компании покупают не просто продукты, а дорожные карты, предпочитая работать с поставщиками в течение многих лет. Соответственно, Intel должна предоставлять своим партнерам долгосрочную видимость дорожной карты, поэтому ей приходится работать над технологиями, до коммерциализации которых остаются годы.

Что касается 14A от Intel, его разработка идет по плану: версия 0.5 набора средств разработки (PDK) уже доступна, а версия 0.9 ожидается в октябре.

«Очевидно, что 14A, и мы объявили в первом квартале, у нас есть PDK v0.5, чтобы они могли сделать тестовый чип, посмотреть на нашу доходность и понять, смогут ли они со временем спроектировать свой продукт и изготовить его у нас», — сказал Тан. «Святой Грааль — это PDK v0.9. Прямо сейчас мы планируем передать его внешнему заказчику в октябре. Внутренний заказчик получит его раньше, чтобы мы могли убедиться, что все сделано правильно, и мы можем продавать продукт с хорошим качеством».

Тан сообщил, что несколько клиентов проявили интерес к 14A, хотя Intel пока не раскрыла их.

«У нас есть несколько клиентов, которые взаимодействуют с нами [по 14A], чтобы определить, какой продукт, какое расположение фабрики и какие мощности нам нужны», — сказал Тан. «Я не раскрываю имя клиента. Если клиент захочет раскрыть себя, мы это поддержим».

Что касается сроков 14A, Intel ожидает начало рискованного производства в 2028 году, а затем серийное производство в 2029 году, что примерно совпадает с началом массового производства чипов TSMC по техпроцессу A14.

Здесь необходимо учитывать три момента. Во-первых, A14 от TSMC не является прямым конкурентом Intel 14A, поскольку последний использует технологию подачи питания с обратной стороны подложки и лучше подходит для высокопроизводительных процессоров дата-центров. Во-вторых, по слухам, TSMC начнет производство чипов с использованием A14 в конце 2028 года, и компания обычно запускает массовое производство с очень высокой производительностью и выходами. Напротив, Intel начинает серийное производство на экспериментальных фабриках, и ей требуется время для достижения сопоставимых показателей. В-третьих, 14A от Intel станет одним из первых техпроцессов, совместимых с High-NA EUV-литографией (для отдельных слоев), и будет первым производственным узлом, способным использовать такие сканеры для массового выпуска.

Внедрение совершенно новых инструментов High-NA EUV, а также новых фоторезистов, фотошаблонов, пелликул, метрологического оборудования, правил проектирования, вычислительной литографии и множества других инноваций будет непростой задачей для Intel. Поэтому компания активно работает как с ASML, так и с партнерами, чтобы гарантировать готовность новой экосистемы к промышленному использованию. По совпадению, глава ASML Кристоф Фуке, как сообщается, заявил, что первые тестовые чипы, изготовленные с помощью этих инструментов High-NA EUV, появятся в ближайшие месяцы, хотя он не уточнил, у какого производителя или на каком предприятии.

Источник: Tomshardware.com