JSR построит первый завод фоторезистов на Тайване для совместной разработки с TSMC

Японский химический концерн JSR, контролирующий около пятой части мирового рынка фоторезистов, планирует построить свое первое производственное предприятие на Тайване. Цель — поставка и совместная разработка передовых фоторезистов с компанией TSMC, сообщает Nikkei Asia. В начале апреля компания создала совместное предприятие с местным партнером и намерена запустить завод уже в 2028 году, инвестировав в проект десятки миллионов долларов.

Новое предприятие позволит JSR устранить отставание от двух крупнейших японских конкурентов. Tokyo Ohka Kogyo (TOK) и Shin-Etsu Chemical уже имеют производственные мощности на Тайване, где напрямую сотрудничают с TSMC в области разработки резистов.

Фоторезист — это светочувствительный материал, используемый для переноса рисунка схем на кремниевые пластины в процессе литографии. На передовых технологических нормах резист должен быть точно настроен для работы с конкретным экспозиционным оборудованием и химическими травителями. Такая настройка требует постоянного взаимодействия между поставщиком резиста и производителем чипов.

В настоящее время JSR разрабатывает продукты для тайваньских клиентов, отправляя образцы со своих предприятий в Японии, США и Бельгии. По данным Nikkei, каждая отправка может занимать недели, затягивая итерационный процесс, который конкуренты могут завершить гораздо быстрее, имея локальное производство. Завод на Тайване позволит JSR разместить своих инженеров ближе к командам разработчиков TSMC — модель, которую TOK и Shin-Etsu уже внедрили. Помимо фоторезистов, JSR сообщила Nikkei Asia, что рассматривает возможность производства на тайваньской площадке и других материалов, например, абразивов для шлифовки полупроводниковых подложек.

Расширение JSR на Тайване является частью более масштабной экспансии. Компания одновременно строит в Южной Корее первое в мире предприятие по производству металлооксидных резистов (MOR) в промышленных масштабах. Массовое производство на нем должно начаться в этом году. Этот завод будет поставлять Samsung Electronics и SK hynix резисты на основе оксида олова для EUV-литографии.

MOR поглощают фотоны EUV более эффективно, чем традиционные химически усиленные резисты, используемые на старых техпроцессах, что обеспечивает более высокое разрешение с меньшим количеством дефектов рисунка. JSR приобрела пионера в области MOR — компанию Inpria — в 2021 году и с тех пор разрабатывает составы на основе оксида олова. По данным Nikkei, компания планирует предложить MOR и TSMC, готовясь к следующему поколению линий EUV и высокоапертурной (high-NA) EUV, которые понадобятся TSMC для техпроцессов 2 нм и ниже.

Японские компании в совокупности занимают около 80% мирового рынка фоторезистов и практически полностью доминируют в сегменте высококлассных EUV-резистов. Китайские фирмы добились успехов на уровне KrF и i-line, но их проникновение на уровень ArF и выше остается минимальным.

«Китайские игроки представляют угрозу, но пройдет еще некоторое время, прежде чем они смогут догнать нас и отвоевать долю рынка», — заявил Nikkei Тору Кимура, старший сотрудник JSR, возглавляющий бизнес компании по электронным материалам.

Стратегия JSR, по-видимому, заключается в том, чтобы оставаться впереди, закрепляя отношения совместной разработки на передовых рубежах, которые имеют самые высокие технические барьеры для входа.

Источник: Tomshardware.com