Бывшие сотрудники ASML помогли Китаю создать прототип передовой машины для производства чипов

Китай, по данным источников Reuters, создал работающий прототип машины для литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV). Этот технологический прорыв, приближающий страну к независимости от западных технологий, стал возможен благодаря бывшим сотрудникам голландской компании ASML.

Прототип уже генерирует EUV-излучение, что является ключевым технологическим достижением. Однако он пока не способен производить рабочие чипы и, по оценкам источников, заметно уступает по сложности и надежности современным машинам ASML. Ожидается, что китайская машина сможет выпускать чипы к 2028-2030 году.

ASML является единственным в мире производителем передовых EUV-машин, доступ к которым для Китая был заблокирован под давлением США. По данным Reuters, бывшие инженеры ASML, работавшие над проектом в Китае, использовали псевдонимы и работали в условиях строгой секретности, чтобы избежать утечки технологий.

Ранее руководство ASML оценивало отставание Китая в этой области в 10-15 лет. Создание прототипа EUV-машины указывает на то, что разрыв может сокращаться быстрее, чем предполагалось. Цель Китая, как цитирует Reuters один из источников, — полностью вытеснить США из своих технологических цепочек.

Власти Нидерландов, где базируется ASML, уже заявили о разработке мер по усилению проверок персонала в научных учреждениях для предотвращения утечки чувствительных технологий. Однако, по мнению экспертов, эти меры могут запоздать, учитывая уже имеющийся у Китая прототип.