Intel установила первый в отрасли коммерческий литограф High-NA EUV

Компания Intel объявила об установке литографической системы ASML Twinscan EXE:5200B — первого в мире коммерческого инструмента для производства чипов с использованием технологии High-NA EUV (ультрафиолетовая литография с высокой числовой апертурой). Аппарат уже прошёл приёмочные испытания и будет задействован для разработки 14A техпроцесса Intel.

Новый сканер, основанный на платформе EXE:5000, способен создавать структуры с разрешением 8 нм, что превосходит возможности существующих Low-NA EUV-систем (13 нм). Он обеспечивает производительность 175 пластин в час и точность совмещения слоёв (оверлей) на уровне 0,7 нанометра — критически важный параметр для современных и будущих норм производства.

Для повышения производительности в сканер интегрирован более мощный источник EUV-излучения, что позволяет быстрее экспонировать пластины. Также была переработана система хранения и подачи пластин (wafer stocker), что улучшило тепловой контроль и стабильность процесса, минимизируя погрешности.

По словам Intel, использование High-NA EUV для 14A и более продвинутых техпроцессов позволит упростить проектные нормы, сократить количество этапов литографии и масок, а также повысить выход годных чипов, отказавшись от мультипаттернинга. Опыт, полученный с EXE:5200B, станет основой для будущих технологий субнанометрового уровня.

Источник: Tomshardware.com