Китайский чипсет Kirin 9030 производится по 5-нм технологии SMIC без использования EUV

Согласно исследованию авторитетного полупроводникового аналитического агентства TechInsights, новейший процессор Huawei Kirin 9030 серии производится по новейшей 5-нм технологии китайской компании SMIC, которую сама компания обозначает как «N+3».

Этот шаг представляет собой значительный скачок по сравнению с предыдущим 7-нм техпроцессом SMIC (N+2) и, очевидно, уже запущен в массовое производство, что позволяет удовлетворить спрос на крупные партии для таких продуктов, как серия Huawei Mate 80.

TechInsights также подтверждает, что 5-нм техпроцесс SMIC не использует EUV-литографию (экстремальный ультрафиолет), а по-прежнему полагается на DUV-литографию (глубокий ультрафиолет), что является сложной инженерной задачей.

Несмотря на это достижение, перед SMIC по-прежнему стоят серьёзные вызовы. В частности, значительное сокращение металлического шага, вероятно, негативно сказывается на выходе годных кристаллов, что может приводить к производству в убыток. Разумеется, официальных или точных данных по этому вопросу нет, и можно строить лишь предположения.

Стоит отметить, что лучшая доступная DUV-иммерсионная литография работает на длине волны 193 нм, в то время как EUV достигает 13,5 нм — разница весьма существенна.

Учитывая, что однократная экспозиция в DUV-литографии позволяет достичь разрешения лишь ниже 38 нм, аналитики TechInsights полагают, что SMIC, вероятно, оптимизировала и максимально использовала возможности существующего оборудования, повысив разрешение однократной экспозиции примерно до 35 нм. Для создания всей схемы чипа, по их мнению, применяется многократная экспозиция.

Технологии многократной экспозиции, такие как саморегулирующаяся четверная экспозиция (SAQP), используются уже много лет. Huawei также опубликовала патент на технологию четверной экспозиции в прошлом году, поэтому использование SMIC подобных методов для 5-нм техпроцесса выглядит вполне логичным.

Ранее, в сентябре этого года, SMIC тестировала иммерсионную DUV-литографическую машину, самостоятельно разработанную китайской компанией Shanghai Yuliangsheng Technology.

Согласно данным, эта отечественная литографическая установка позиционируется как оборудование для 28-нм техпроцесса, а её технический уровень близок к двухстадийным литографам ASML образца примерно 2008 года.

Однако TechInsights считает, что SMIC вряд ли сможет добиться технологического прорыва в краткосрочной перспективе, и маловероятно, что это отечественное оборудование использовалось для массового производства чипов Kirin 9030. Скорее всего, 5-нм техпроцесс SMIC по-прежнему основан на DUV-литографах ASML.

Ранее известный инвестиционный банк Goldman Sachs в своём отчёте заявлял, что китайские отечественные литографы способны производить чипы только по 65-нм техпроцессу, отставая от международного гиганта ASML примерно на 20 лет. Впрочем, тогда они также считали, что SMIC способна на массовое производство только 7-нм чипов.

ИИ: Новость демонстрирует впечатляющий прогресс китайской полупроводниковой индустрии в условиях внешних ограничений. Производство 5-нм чипов на DUV-оборудовании — это сложный инженерный трюк, хотя и с компромиссами в виде потенциально более низкого выхода годных и высокой сложности процесса. Это важный шаг для Huawei и SMIC, но до полной технологической независимости, особенно в области передового оборудования для литографии, путь ещё долгий.