Китай развивает экосистему фоторезистов для лазеров

Полупроводниковые фоторезисты классифицируются по длинам волн облучения, включая широкополосные УФ (300-450 нм), g-линейные (436 нм), i-линейные (365 нм), KrF (248 нм), ArF (193 нм), EUV (13,5 нм) и типы электронного пучка. Фоторезисты KrF, ArF и EUV являются самыми чистыми и передовыми из всех. На мировом рынке доминируют крупные игроки из Японии и США, такие как JSR, Tokyo Ohka Kogyo, Shin-Etsu Chemical, Sumitomo Chemical, Fujifilm и DuPont, которые контролируют большинство передовых технологий производства фоторезистов.

Китайские компании, в том числе Shanghai Sinyang, Rachem и Bcpharma, добились прогресса в производстве фоторезистов начального уровня, но с трудом конкурируют на рынке высококачественных материалов из-за технических проблем и позднего запуска. В настоящее время уровень проникновения фоторезистов g-line и i-line на внутреннем рынке Китая остается низким: около 20%, менее 5% - для KrF и менее 1% - для ArF. Тем не менее, некоторые китайские компании делают успехи в разработке современных фоторезистов.

Компания Hubei Dinglong недавно объявила, что ее фоторезисты ArF и KrF прошли оценку клиентов и получили заказы от двух отечественных производителей пластин на общую сумму более 1 миллиона йен (137 тысяч долларов). Согласно отчету, компания добилась этого за счет индивидуальной настройки структуры мономеров и смол и совершенствования таких процессов, как очистка и смешивание, что позволило полностью локализовать производственный процесс, охватывающий как материалы, так и конечную продукцию.

Компания Rongda получила одобрение на частное размещение инвестиций в размере 244 миллионов йен (33,493 миллиона долларов) для финансирования проектов по производству высококачественных фоторезистов, паяных масок для микросхем и сухих пленок. Эти средства пойдут на финансирование расходов на НИОКР и операционные нужды. Продукция Rongda, выпускаемая на основе сухих пленок, предназначена для производства печатных плат и полупроводников, которые переживают значительный рост благодаря увеличению производственных мощностей в Китае.

Быстро растущая производственная база Китая в области микроэлектроники увеличивает спрос на локализованные решения для фоторезистов по мере ввода в эксплуатацию новых фабрик. Правительство Китая активно поддерживает полупроводниковую и сырьевую промышленность, проводя политику поощрения отечественных инноваций и снижения зависимости от иностранных поставщиков.

Несмотря на сохраняющиеся проблемы из-за высоких технических барьеров, создаваемых глобальной конкуренцией, китайская индустрия фоторезистов постепенно сокращает отставание, что обещает в конечном итоге увеличить долю этих компаний на рынке высококачественных приложений.

Источник: Tomshardware.com