Прорыв в технологии фотолитографии: впервые создана 3D-карта микроструктуры фотoresista с разрешением лучше 5 нм

Прорыв в технологии фотолитографии: впервые создана 3D-карта микроструктуры фотoresista с разрешением лучше 5 нм В области фотoresistов, ключевого материала для производства чипов, достигнут значительный прорыв. Команда профессора Пэн Хайлиня с химического факультета Пекинского университета совместно с другими исследователями впервые смогла визуализировать трёхмерную микроструктуру молекул фотoresista в жидкой
Читать дальше →
  • Алиса Минь   
  • 0