В условиях отсутствия литографов EUV китайской полупроводниковой отрасли приходится полагаться на DUV-оборудование для реализации более передовых техпроцессов, что представляет собой серьёзный технологический вызов. В то время как TSMC и Intel используют DUV лишь до 7 нм, в Китае ставят цель освоить
Читать дальше →
